[发明专利]零部件、等离子体装置、形成耐腐蚀涂层的方法及其装置

权利要求书

1.一种耐等离子腐蚀的零部件，其特征在于，包括：

零部件本体，其包括待镀面，所述待镀面在任意水平距离为100微米范围内局域高度偏差小于等于20微米；

耐腐蚀涂层，位于所述待镀面上，所述耐腐蚀涂层表面在任意水平距离为50微米范围内局域高度偏差小于等于10微米，所述耐腐蚀涂层由物理气相沉积工艺制成，表面形貌致密；

所述耐腐蚀涂层表面具有多个生长单元，其中80%以上的生长单元的面积小于450平方微米。

2.如权利要求1所述的零部件，其特征在于，所述耐腐蚀涂层无生长边界。

3.如权利要求1所述的零部件，其特征在于，所述多个生长单元中，每个生长单元的顶部和边界沟槽之间的高度差小于1微米。

4.如权利要求1所述的零部件，其特征在于，所述耐腐蚀涂层表面在任意水平距离为50微米范围内，通过扫描电子显微镜在放大至少1000倍条件下观察其形貌，无封闭图形。

5.如权利要求1所述的零部件，其特征在于，所述零部件本体的材料包括：铝、铝合金、陶瓷、单晶硅、多晶硅、碳化硅、氮化硅和氧化硅中的至少一种。

6.如权利要求1所述的零部件，其特征在于，所述耐腐蚀涂层的材料为稀土元素的氧化物、稀土元素氟化物和稀土元素氟氧化物中的至少一种。

7.如权利要求6所述的零部件，其特征在于，所述耐腐蚀涂层的材料还包括：铝元素或者硅元素。

8.如权利要求1所述的零部件，其特征在于，所述耐腐蚀涂层的厚度为：1微米~1000微米。

9.如权利要求8所述的零部件，其特征在于，所述耐腐蚀涂层的厚度为10微米~500微米。

10.如权利要求1所述的零部件，其特征在于，所述多个生长单元中，80%以上的生长单元边界具有小于100微米的周长。

11.如权利要求1所述的零部件，其特征在于，所述耐腐蚀涂层由低热应力涂覆方法形成在零部件表面，所述低热应力涂覆方法包括：放置零部件在一个涂覆材料源装置上方，使得材料源装置中的涂覆材料分子向上运动到达零部件表面，零部件表面形成第一厚度的涂层后，移动所述零部件使得零部件与所述涂覆材料源装置的距离增加，或者使得零部件镀面倾斜于所述涂覆材料分子运动方向。

12.一种等离子体装置，其特征在于，包括：

等离子体处理腔，所述等离子体处理腔内用于形成等离子体环境；

如权利要求1至权利要求11任一项所述零部件，位于所述等离子体处理腔内，暴露于所述等离子体环境中。

13.如权利要求12所述的等离子体装置，其特征在于，当等离子体装置为电感耦合等离子体装置时，所述零部件包括：陶瓷板、内衬套、气体喷嘴、气体分配板、气管法兰、静电吸盘组件、覆盖环、聚焦环、绝缘环、衬底固持框和等离子体约束环中的至少一种。

14.如权利要求12所述的等离子体装置，其特征在于，当等离子体装置为电容耦合等离子体装置时，所述零部件包括：喷淋头、上接地环、移动环、气体分配板、气体缓冲板、静电吸盘组件、下接地环、覆盖环、聚焦环、绝缘环、衬底固持框和等离子体约束环中的至少一种。