[发明专利]用于移除和/或避免带电粒子束系统中污染的方法和系统在审

专利信息
申请号: 202111172533.4 申请日: 2017-04-21
公开(公告)号: CN113871279A 公开(公告)日: 2021-12-31
发明(设计)人: M·斯米茨;J·J·科宁;C·F·J·洛德韦克;H·W·穆克;L·阿塔尔德 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: H01J37/02 分类号: H01J37/02;H01J37/26;H01J37/317;H01J37/32
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 闫昊
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 避免 带电 粒子束 系统 污染 方法
【权利要求书】:

1.一种用于防止或移除带电粒子束系统中带电粒子传输孔的污染的方法,所述带电粒子束系统包括布置在真空腔中的带电粒子光学列和清洁剂源,所述带电粒子光学列被配置成将带电粒子的射束投射到目标上并且包括:

-带电粒子光学元件,被配置为影响所述带电粒子的射束,所述带电粒子光学元件包括:

o带电粒子传输孔,被配置为传输和/或影响所述带电粒子的射束,以及

o通气孔,被配置为在所述带电粒子光学元件的第一侧和第二侧之间提供通过所述通气孔的流动路径;以及

-导管,所述导管被连接到所述清洁剂源,并用于朝向带电粒子光学元件引入所述清洁剂;

所述方法包括

-将所述带电粒子的射束朝向所述带电粒子光学元件引导;以及

-在将所述带电粒子的射束朝向所述带电粒子光学元件引导时,从所述清洁剂源朝向带电光学元件引入所述清洁剂。

2.根据权利要求1所述的方法,其中从所述清洁剂源朝向带电光学元件引入所述清洁剂包括:在所述真空腔中保持真空时朝向所述带电粒子光学元件引入所述清洁剂。

3.根据权利要求2所述的方法,其中保持所述真空包括:至少通过所述带电粒子光学元经由所述通气孔向连接到所述系统的真空装置提供所述流动。

4.根据权利要求3所述的方法,其中所述真空腔连接到所述真空装置,其中经由所述通气孔提供所述流动包括:至少通过所述带电粒子光学元件经由所述通气孔向所述真空装置提供所述流动。

5.根据权利要求1、2、3或4所述的方法,其中朝向所述带电光学元件引入所述清洁剂包括:经由连接到所述清洁剂源的导管朝向所述带电粒子光学元件引入所述清洁剂。

6.根据权利要求5所述的方法,其中朝向所述带电光学元件引入所述清洁剂包括:在所述带电粒子的射束存在于所述带电粒子光学元件的孔处或存在于所述带电粒子光学元件的孔的附近时,朝向所述带电粒子光学元件引入所述清洁剂。

7.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中引入所述清洁剂包括:在所述带电粒子光学元件的表面之上引导所述清洁剂。

8.根据权利要求7所述的方法,其中包括所述带电粒子传输孔的所述带电粒子光学元件的所述表面包括带电粒子传输孔的阵列。

9.根据权利要求1至7中任一项所述的方法,其中所述带电粒子光学元件包括带电粒子传输孔的阵列,其中投射所述带电粒子的射束包括:将带电粒子的多个射束通过所述带电粒子传输孔的阵列投射到目标上。

10.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其中所述带电粒子束系统包括带电粒子束发生器,被配置为产生所述带电粒子的射束,其中朝向所述带电粒子光学元件引入所述清洁剂包括:在所述射束发生器产生带电粒子束时,朝向所述带电粒子光学元件引入所述清洁剂。

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