[发明专利]用于X射线散射测量系统的全光束度量

权利要求书

1.一种度量系统，其包括：

X射线照明源，其经配置以产生一定量的X射线辐射；

X射线照明光学器件子系统，其经配置以相对于形成在晶片表面上的测量目标的多个定向，使用所述一定量的X射线辐射照明所述测量目标；

X射线检测器，其经配置以在每一定向同时检测响应于所述一定量的X射线辐射而从所述测量目标散射的一定量的辐射的与零衍射级相关联的强度以及与较高衍射级相关联的强度，其中所述零衍射级以及所述较高衍射级以所述多个定向中的至少一者在所述X射线检测器处重叠；及

计算系统，其经配置以基于在所述多个定向的所述衍射级的经检测强度而确定与所述测量目标的模型相关联的所关注参数的值。

2.根据权利要求1所述的度量系统，其中所述测量目标的所述模型包含自所述X射线照明源至所述X射线检测器的所述一定量的X射线辐射的发散的值。

3.根据权利要求1所述的度量系统，所述计算系统进一步经配置以：

基于经检测零衍射级的性质而确定测量质量以及性能的指示。

4.根据权利要求3所述的度量系统，其中所述测量质量以及性能的指示是所述X射线检测器与所述一定量的X射线辐射的轴的对准、所述X射线照明源的亮度、所述X射线照明源的对准、及所述X射线照明光学器件子系统的元件中的任一者或两者。

5.根据权利要求3所述的度量系统，其中所述计算系统进一步经配置以：

基于所述测量质量以及性能的指示而将命令信号传达到所述度量系统的元件以调整所述度量系统。

6.根据权利要求1所述的度量系统，其中所述计算系统进一步经配置以：

基于所述零衍射级的经测量光束轮廓而确定所述较高衍射级的光束轮廓的模型。

7.根据权利要求1所述的度量系统，其中所述计算系统进一步经配置以：

通过将所述较高衍射级的经测量强度除以所述零衍射级的经测量强度而估计相对于所述零衍射级的所述经测量强度的所述较高衍射级的强度。

8.根据权利要求1所述的度量系统，其中所述X射线检测器的光敏体积包含碲化镉、锗、砷化镓或其任何组合。

9.根据权利要求1所述的度量系统，其中所述测量目标包含一或多个高高宽比结构。

10.根据权利要求9所述的度量系统，其中所述一或多个高高宽比结构是下列项中的任一者：自旋转移力矩随机存取存储器(STT-RAM)、三维NAND存储器(3D-NAND)、动态随机存取存储器(DRAM)、三维快闪存储器(3D-FLASH)、电阻性随机存取存储器(Re-RAMPC)及相变随机存取存储器(PC-RAM)。

11.一种度量系统，其包括：

X射线照明源，其经配置以产生一定量的X射线辐射；

X射线照明光学器件子系统，其经配置以相对于形成在晶片表面上的测量目标的多个定向，使用所述一定量的X射线辐射照明所述测量目标；

X射线检测器，其经配置以在每一定向同时检测响应于所述一定量的X射线辐射而从所述测量目标散射的一定量的辐射的与零衍射级相关联的强度以及与较高衍射级相关联的强度；及

计算系统，其经配置以基于具有在所述多个定向的所述零衍射级的经检测强度以及所述较高衍射级的经检测强度的所述测量目标的模型的回归而确定与所述测量目标的所述模型相关联的所关注参数的值。

12.根据权利要求11所述的度量系统，其中所述零衍射级以及所述较高衍射级在所述X射线检测器处重叠。

13.根据权利要求11所述的度量系统，其中所述测量目标的所述模型包含自所述X射线照明源至所述X射线检测器的所述一定量的X射线辐射的发散的值。