[发明专利]投影成像方法及投影系统在审

专利信息
申请号: 202111175778.2 申请日: 2021-10-09
公开(公告)号: CN113741125A 公开(公告)日: 2021-12-03
发明(设计)人: 童安磊;张铎;贾钊;孟栋良 申请(专利权)人: 杭州安幂医学科技有限公司
主分类号: G03B21/14 分类号: G03B21/14
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 杨萌
地址: 310000 浙江省杭州市滨江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 投影 成像 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种投影成像方法,其特征在于,包括如下步骤:

S1.获取变焦投影镜头到待投影面之间的投射距离;

S2.根据投射距离和预设投影影像的尺寸获得变焦投影镜头出射光的目标发散角度值;

S3.调节变焦投影镜头的出射光的发散角度值等于目标发散角度值。

2.根据权利要求1所述的投影成像方法,其特征在于,所述预设投影影像的形状为正方形。

3.根据权利要求1所述的投影成像方法,其特征在于,所述变焦投影镜头包括间隔设置的补偿透镜组(3400)和变倍透镜组(3300);

所述步骤S3中通过改变补偿透镜组(3400)和变倍透镜组(3300)在光轴上的位置改变变焦投影镜头的出射光的发散角度。

4.根据权利要求3所述的投影成像方法,其特征在于,所述变焦投影镜头还包括位于所述变倍透镜组(3300)出光侧的第一弯月透镜(1),所述第一弯月透镜(1)包括朝向出光侧凸出的出光曲面S1,以及向出光侧凹陷的入光曲面S2。

5.根据权利要求4所述的投影成像方法,其特征在于,所述变倍透镜组(3300)包括沿出射光方向依次设置的第二弯月透镜(3)和双凹透镜(2);

所述双凹透镜(2)包括朝向入光侧凹陷的出光曲面S3,以及向出光侧凹陷的入光曲面S4;

所述第二弯月透镜(3)包括朝向入光侧凹陷的出光曲面S5,以及向出光侧凸出的入光曲面S6。

6.根据权利要求5所述的投影成像方法,其特征在于,所述补偿透镜组(3400)包括沿出射光反向依次设置的平凸透镜(7)、第三弯月透镜(6)和双凸透镜(5);

所述双凸透镜(5)包括朝向出光侧凸出的出光曲面S7,以及向入光侧凸出的入光曲面S8;

所述第三弯月透镜(6)包括朝向入光侧凹陷的出光曲面S9,以及向入光侧凸出的入光曲面S10;

所述平凸透镜(7)包括朝向出光侧凸出的出光曲面S11,以及入光平面S12。

7.根据权利要求6所述的投影成像方法,其特征在于,所述第一弯月透镜(1)的焦距f1的范围为116mm<f1<118mm;所述双凹透镜(2)的焦距f2的范围为-19mm<f2<-17mm;所述第二弯月透镜(3)的焦距f3的范围为57mm<f3<59mm;所述双凸透镜(5)的焦距f4的范围为20mm<f4<22mm;所述第三弯月透镜(6)的焦距f5的范围为-38mm<f5<-36mm;所述平凸透镜(7)的焦距f6的范围为39mm<f6<41mm。

8.根据权利要求7所述的投影成像方法,其特征在于,所述出光曲面S1和入光曲面S2之间的轴向距离大于4mm且小于6mm;

所述入光曲面S2和出光曲面S3之间的轴向距离大于3mm且小于5mm;

所述出光曲面S3和入光曲面S4之间的轴向距离大于1mm且小于2mm;

所述入光曲面S4和出光曲面S5之间的轴向距离大于1.8mm且小于3.8mm;

所述出光曲面S5和入光曲面S6之间的轴向距离大于2.5mm且小于4.5mm;

所述出光曲面S7和入光曲面S8之间的轴向距离大于4mm且小于6mm;

所述入光曲面S8和出光曲面S9之间的轴向距离大于0.5mm且小于1.5mm;

所述出光曲面S9和入光曲面S10之间的轴向距离大于1mm且小于2mm;

所述入光曲面S10和出光曲面S11之间的轴向距离大于0.25mm且小于0.75mm;

所述出光曲面S11和入光平面S12之间的轴向距离大于2.5mm且小于4.5mm。

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