[发明专利]一种膜层沉积腔室及磁控溅射设备

权利要求书

1.一种膜层沉积腔室，内部适于通过载板(1)并对载板(1)上的工件进行成膜，其特征在于，还包括壳体(2)、观察窗(3)和挡板(4)；

所述壳体(2)上设置有所述观察窗(3)，所述观察窗(3)用于提供观察所述载板(1)的窗口，所述壳体(2)的内部和外部均设置有所述挡板(4)，所述挡板(4)用于遮挡所述观察窗(3)，所述挡板(4)包括第一挡板(41)和第二挡板(42)，所述第一挡板(41)可移动的设置于所述外壳(1)的内部，所述第二挡板(42)铰接于所述观察窗(3)的外部；

所述第一挡板(41)与所述壳体(2)之间设置有驱动机构(5)，所述驱动机构(5)用于使所述第一挡板(41)位移，所述壳体(2)的内部还设置有清理机构(6)；

所述清理机构(6)包括清洁板(61)，所述清洁板(61)的一端于所述第一挡板(41)固定连接，所述清洁板(61)的另一端与所述观察窗(3)的内壁接触。

2.根据权利要求1所述的一种膜层沉积腔室及磁控溅射设备，其特征在于，所述驱动机构(5)包括滑道(51)、滑块(52)、电动推杆(53)，所述壳体(2)的内部设置有所述滑道(51)，所述滑道(51)上滑动设置有滑块(52)，所述滑块(52)与所述第一挡板(41)固定连接，所述壳体(52)的内部设置有所述电动推杆(53)，所述电动推杆(53)用于使所述第一挡板(41)沿所述滑道(51)滑动。

3.根据权利要求2所述的一种膜层沉积腔室及磁控溅射设备，其特征在于，所述壳体(2)的内壁设置有支撑架(7)，所述壳体(2)通过所述支撑架(7)与所述电动推杆(53)固定连接。

4.根据权利要求1所述的一种膜层沉积腔室及磁控溅射设备，其特征在于，所述清理机构(6)还包括吸气装置(62)、主管道(63)、分流管(64)和收集端口(65)，所述壳体(2)的外部设置有所述吸气装置(62)，所述主管道(63)的一端于所述吸气装置(62)连通，所述主管道(63)的另一端延伸至所述壳体(2)的内部，延伸至所述壳体(2)内的所述主管道(63)分别与所述分流管(64)的一端连通，所述分流管(64)的一端延伸至所述收集端口(65)的内部。

5.根据权利要求4所述的一种膜层沉积腔室及磁控溅射设备，其特征在于，所述收集端口(65)为两端设置有开口，中部为空腔的壳体结构，所述收集端口(65)其中一个开口于所述分流管(64)连通，所述收集端口(65)的另一端延伸至所述观察窗(3)的一侧。

6.根据权利要求5所述的一种膜层沉积腔室及磁控溅射设备，其特征在于，所述主管道(63)与所述分流管(64)之间设置有连接通道(67)，所述连接通道(67)用于使所述主管道(63)与若干所述分流管(64)连通。

7.根据权利要求6所述的一种膜层沉积腔室及磁控溅射设备，其特征在于，所述连接通道(67)的内部可拆卸设置有过滤网。

8.根据权利要求4所述的一种膜层沉积腔室及磁控溅射设备，其特征在于，所述主管道(63)上设置有控制阀(66)，所述控制阀(66)用于控制所述主管道(63)的通断。

9.一种磁控溅射设备，其特征在于，包括权利要求1-9中任一项所述的膜层沉积腔室。