[发明专利]釉下移印装饰的陶瓷色釉料、日用陶瓷器具及其制备方法

说明书

本发明属于陶瓷材料技术领域，具体公开了一种日用陶瓷釉下移印装饰的陶瓷色釉料及其制备方法与应用。陶瓷色釉料包括移印胶、熔块和着色剂；移印胶中含有非离子表面活性剂；熔块的熔融温度范围为900‑1100℃。日用陶瓷器具的制备方法，包括以下步骤：将陶瓷色釉料的各原料混合后进行湿法研磨，制得色釉浆；采用硅胶移印的方式将色釉浆移印至坯体层后，进行素烧，得素烧坯；对素烧坯进行打磨抛光处理后，施表面釉层，然后进行釉烧，得日用陶瓷器具。本发明通过在陶瓷色釉料中添加含有非离子表面活性剂的移印胶和熔融温度范围为900‑1100℃的熔块，解决了现有日用陶瓷二次烧成釉下移印工艺中存在的缺花及图案脱落的现象。

技术领域

本发明属于陶瓷材料技术领域，尤其涉及一种日用陶瓷色釉料，具体涉及一种釉下移印装饰的陶瓷色釉料、日用陶瓷器具及其制备方法。

背景技术

现代日用陶瓷的质量和档次不断提高，人们对日用陶瓷的外观装饰要求越来越个性化，越来越多年轻人更钟爱于图案丰富的日用陶瓷。对于用于接触食物的日用陶瓷来说，人们不仅要求装饰美观，更要求健康安全环保。因此，釉下装饰成为了精美图案陶瓷的最常用工艺，因为通过釉下装饰可以有效控制铅镉溶出，保证了安全和美观。

目前，日用陶瓷硅胶移印印花常用工艺为：将着色剂和普通陶瓷用胶水混合并调配成胶状物后，采用硅胶移印的方式，将其移印至经过打磨后的坯体上，然后再烘干，最后施透明釉，但这种方式仅仅适用于一次烧成的日用陶瓷，不适用于需要二次烧成的镁质瓷、骨质瓷等釉下移印装饰。因为对于二次烧成的日用陶瓷，着色剂和普通陶瓷用胶水配成的胶状物移印到生坯上形成图案后需先进行素烧，然后再采用湿式磨光机打磨抛光处理，保证素坯的平整，这样得到的图案在经过湿式打磨抛光处理时，易由于移印图案的胶状物与素坯的附着性能差而出现图案脱落的现象。同时由于硅胶移印的硅胶头是油性的，而采用普通陶瓷用胶水配成的胶状物是水性的，这样的传统硅胶移印工艺容易造成印花过程中印花图案的缺花现象。

因此，亟需研发一种适用于二次烧成日用陶瓷釉下移印装饰的陶瓷色釉料，以解决现有技术中存在的图案脱落和缺花的现象。

发明内容

本发明提出一种釉下移印装饰的陶瓷色釉料、日用陶瓷器具及其制备方法，以解决现有技术中存在的一个或多个技术问题，至少提供一种有益的选择或创造条件。

为克服上述技术问题，本发明的第一方面提供了一种陶瓷色釉料。

具体地，一种陶瓷色釉料，所述陶瓷色釉料包括移印胶、熔块和着色剂；所述移印胶中含有非离子表面活性剂；所述熔块的熔融温度范围为900-1100℃。

本发明通过在陶瓷色釉料中添加移印胶和熔块，以解决现有日用陶瓷二次烧成釉下移印工艺中存在的缺花及图案脱落的现象，其中：移印胶中以非离子表面活性剂作为改性剂，利用其为在水中不离解成离子状态的两亲结构化合物，且具有良好的除油和去污功能，可除去转印印花过程中图案钢模上的油污和胶头携带油污，有利于色釉料按所需图案铺平，避免产生缺花现象。

同时，在陶瓷色釉料中添加熔块，熔块作为熔剂可有效保证着色剂在烧结过程中与坯体的附着性能，从而大大降低移印图案在素烧后的脱落现象。本发明通过控制熔块的熔融温度范围在900-1100℃的特定范围内，可实现移印图案不脱落的情况下，保证图案的清晰度与完整性。熔块的熔融温度过高，将降低着色剂的附着性能而使图案脱落；熔块的熔融温度过低，将使色釉料移印的图案因流动而模糊或发生变化，因此，熔块的熔融温度是保证移印图案不脱落并保持清晰与完整的关键。

作为上述方案的进一步改进，所述陶瓷色釉料，按重量份计包括：移印胶35-40份、熔块12-17份，着色剂43-53份。具体地，通过控制移印胶、熔块和着色剂的合适配比，可更好地适应釉下移印工艺，保证陶瓷色釉料不脱落不缺花的同时，实现印花图案的清晰与完整性，适应日用陶瓷釉下移印色釉料的二次烧成。