[发明专利]一种利用有机硅副产高沸物制备烷氧基二硅烷的方法在审

专利信息
申请号: 202111183165.3 申请日: 2021-10-11
公开(公告)号: CN113929713A 公开(公告)日: 2022-01-14
发明(设计)人: 杜斌;王文金;沈谦;辛梓杰;匡建国;姚中鹏 申请(专利权)人: 湖北兴瑞硅材料有限公司
主分类号: C07F7/08 分类号: C07F7/08;C07F7/18
代理公司: 宜昌市三峡专利事务所 42103 代理人: 成钢
地址: 443007 湖北*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 利用 有机硅 副产高沸物 制备 烷氧基二 硅烷 方法
【说明书】:

发明公开了一种利用有机硅高沸物制备烷氧基二硅烷的方法,该方法通过精馏高沸物馏取沸点130‑160℃馏分得到含氯二硅烷;二硅烷化合物加入反应釜,滴加醇醇解,醇解过程通氮气带出部分氯化氢气体,醇解完成后采用特殊中和剂除去残余酸,过滤得到烷氧基二硅烷和盐;中和得到的盐加水溶解,加氢氧化钠中和至中性,分出水层,油层蒸馏除去微量水后作为特殊中和剂重复使用。本发明的优势在于高沸物精馏分离了硅烷和二硅烷,实现了高沸物的精细化应用,提高了附加值;含氯二硅烷醇解后不同产物之间沸点差异增大,为精馏分离创造了便利;采用特殊有机碱作为中和剂,中和不产生水,产品储存稳定性增加,特殊有机碱不溶于水,但其盐酸盐溶于水,可以在水中用普通碱中和后回收有机碱循环使用。

技术领域

本发明涉及一种烷氧基二硅烷的制备方法,更具体是涉及一种高沸物制备烷氧基二硅烷的制备方法。

背景技术

甲基氯硅烷单体合成中副产的沸点超过80℃的副产物称为高沸物,是以Si-Si、Si-C-Si为主的高沸点化合物,国内企业约占产物的3—8%。一般来说,甲基氯硅烷高沸物是含有少量极细微的硅粉和不可溶的Cu、Al、Zn等杂质,外观呈棕褐色,具有强烈腐蚀性的混合液体。常温常压下密度1.1—1.3g/ml,沸程80---215℃,其中主要成分有30多种。高沸物的组成与有机硅单体生成中硅粉纯度、氯甲烷纯度、催化剂以及反应条件有关。因此,关于高沸物组成的报道不尽相同,但基本认为其主要组成为含Si-Si,Si-O-Si,Si-CH2-Si的化合物,其中可水解Cl原子数与Si原子数之比为1.2---2.8。高沸物的利用主要有水解制备高沸硅油、裂解制备单体、醇解制备烷氧基硅烷三种。其中水解制备的高沸硅油质量差,附加值低,裂解制备的单体二甲(二甲基二氯硅烷)收率低。醇解制备烷氧基硅烷,可以用于硅油硅树脂的合成且不产生酸性气体,附加值较高,但目前制备烷氧基硅烷,高沸物未经过精馏处理,产物种类复杂,应用受限,同时醇解后的氯化氢多采用常规碱中和,产生的水促使烷氧基硅烷水解缩合,产物收率低,储存稳定性差。

发明内容

为了解决高沸物的合理利用及醇解产物储存稳定性不佳的问题,采用精馏的方法分离出含氯二硅烷,含氯二硅烷醇解后制备烷氧基二硅烷,烷氧基二硅烷精馏分离出不同烷氧基含量的二硅烷。

一种利用有机硅高沸物制备烷氧基二硅烷的的方法,该方法具有如下步骤:

(1)高沸物精馏,高沸物精馏取沸点130-160℃馏分,得到含氯二硅烷;

(2)二硅烷化合物加入反应釜,滴加醇进行醇解,醇解过程通氮气带出部分氯化氢气体,醇解完成后采用特殊中和剂除去残余酸,过滤;精馏分离醇和不同二硅烷;

(3)中和得到的盐加水溶解,加氢氧化钠中和至pH 10-12,分出水层,油层蒸馏除去微量水后作为特殊中和剂重复使用。

所述的高沸物指甲基氯硅烷单体合成中副产的沸程80---215℃的,以Si-Si、Si-C-Si为主,外观呈棕褐色的具有强烈腐蚀性的混合液体,常温常压下密度1.1—1.3g/ml。所述的含氯二硅烷为(CH3)nSi2Cl6-n(n≤4),具体的指Cl3SiSiCl3、(CH3)2ClSiSiCl(CH3)2、CH3Cl2SiSiCl2CH3、(CH3)2ClSiSiCl2CH3、(CH3)2ClSiSiCl3等中的一种或几种。

所述的醇为甲醇或乙醇;醇解过程醇和含氯二硅烷的质量之比为0.2-1.5,优选的为0.5-0.8;醇解反应温度为25-75℃,优选的为35℃;醇的滴加时间为1-3h;醇滴加过程通氮气,滴加结束后继续通0.5-2h。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湖北兴瑞硅材料有限公司,未经湖北兴瑞硅材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111183165.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top