[发明专利]曝光装置和曝光方法

权利要求书

1.一种曝光装置，其特征在于，包括：

载置基片的载置部；

为了形成从所述基片的表面的左右的一端至另一端的带状的照射区域，通过左右排列多个光照射部而构成的发光部组，其中，所述光照射部由前后排列的多个发光部构成；

按照每个所述光照射部调整向所述发光部组供给的电流的电流调整部；和

移动机构，其用于使载置在所述载置部的基片分别进行相对于所述照射区域的相对的旋转、相对的前后移动，以将所述基片的整个表面曝光。

2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于：

设置有控制部，该控制部输出控制信号以执行以下步骤：

第一步骤，使所述基片相对于形成有第一照度分布的所述照射区域相对地旋转，以将所述基片的整个表面曝光；和

第二步骤，在所述基片的旋转停止的状态下，使所述基片相对于形成有第二照度分布的所述照射区域在前后方向相对地移动，以将所述基片的整个表面曝光。

3.如权利要求2所述的曝光装置，其特征在于：

在所述照射区域形成第一照度分布而进行所述第一步骤，

在所述照射区域形成不同于所述第一照度分布的第二照度分布而进行所述第二步骤。

4.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于：

设置有控制部，该控制部输出控制信号以执行以下步骤：

使所述载置部相对于所述照射区域在前后方向上相对地移动，将所述基片的整个表面曝光的第一前后移动步骤；

接着，使所述基片旋转而改变朝向的步骤；和

接着，使所述载置部相对于所述照射区域在前后方向上相对地移动，将所述基片的整个表面曝光的第二前后移动步骤。

5.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于：

设置有控制部，该控制部输出控制信号以执行以下步骤：

一边使所述基片相对于所述照射区域在前后方向上相对地移动，一边使所述基片相对于该照射区域相对地旋转，将所述基片的整个表面曝光的步骤。

6.一种曝光方法，其特征在于，包括：

将基片载置到载置部的步骤；

利用通过左右排列多个光照射部而构成的发光部组，形成从所述基片的表面的左右的一端至另一端的带状的照射区域的步骤，其中，所述光照射部由前后排列的多个发光部构成；

利用电流调整部按照每个所述光照射部调整向所述发光部组供给的电流的步骤；和

利用移动机构使载置在所述载置部的基片分别进行相对于所述照射区域的相对的旋转、相对的前后移动，以将所述基片的整个表面曝光的步骤。