[发明专利]一种光敏剂及含其的i线光刻胶和制备方法在审
申请号: | 202111188992.1 | 申请日: | 2021-10-12 |
公开(公告)号: | CN115963693A | 公开(公告)日: | 2023-04-14 |
发明(设计)人: | 方书农;王溯;耿志月;崔中越 | 申请(专利权)人: | 上海新阳半导体材料股份有限公司;上海芯刻微材料技术有限责任公司 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004 |
代理公司: | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人: | 陈卓 |
地址: | 201616 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光敏剂 光刻 制备 方法 | ||
1.一种i线光刻胶组合物的制备方法,其特征在于,其包括下列步骤:将i线光刻胶组合物中的各组分混合均匀即可,所述的i线光刻胶组合物包括以下组分:酚醛树脂、光敏剂、有机硅流平剂和有机溶剂;
其中,光敏剂由光敏剂A和光敏剂B组成;所述光敏剂A和光敏剂B的结构如下所示:
所述酚醛树脂为酚醛树脂A和酚醛树脂B的至少一种;
所述酚醛树脂A的制备方法包括下列步骤:在草酸的作用下,将间甲酚、对甲酚、3,5-二甲酚和甲醛进行反应得到;
所述酚醛树脂B的制备方法包括下列步骤:在草酸的作用下,将间甲酚、对甲酚和甲醛进行反应得到;
所述有机硅流平剂可为聚甲基苯基硅氧烷。
2.如权利要求1所述的i线光刻胶组合物的制备方法,其特征在于,
所述光敏剂A以重量份数计为10-20份;
和/或,所述光敏剂B以重量份数计为5-10份;
和/或,所述酚醛树脂以重量份数计为80-100份;
和/或,所述有机硅流平剂在所述i线光刻胶组合物中的浓度为500-2000ppm;
和/或,所述有机溶剂以重量份数计为450-800份。
3.如权利要求2所述的i线光刻胶组合物的制备方法,其特征在于,
所述光敏剂A以重量份数计为10-17份或10-15份;
和/或,所述光敏剂B以重量份数计为5份;
和/或,所述酚醛树脂以重量份数计为80份;
和/或,所述有机硅流平剂在所述i线光刻胶组合物中的浓度为500ppm、1000ppm或2000ppm;
和/或,所述有机溶剂以重量份数计为450份。
4.如权利要求1-3任一项所述的i线光刻胶组合物的制备方法,其特征在于,
所述酚醛树脂为酚醛树脂A、酚醛树脂B或酚醛树脂A和酚醛树脂B的组合;当所述酚醛树脂为酚醛树脂A和B的组合时,酚醛树脂A和酚醛树脂B的质量比优选2:7-7:2;
和/或,所述有机硅流平剂的重均分子量为3000-6000;
和/或,所述有机溶剂为醚类溶剂、酯类溶剂、酰胺类溶剂、芳烃类溶剂和酮类溶剂的一种或多种。
5.如权利要求4所述的i线光刻胶组合物的制备方法,其特征在于,
所述醚类溶剂为乙二醇单甲醚、丙二醇甲醚、苯甲醚、丙二醇单乙醚、二缩乙二醇甲醚和二缩乙二醇乙醚中的一种或多种;
和/或,所述酯类溶剂为丙二醇单甲醚乙酸酯、醋酸丁酯、乙酸乙酯、乳酸乙酯和γ-丁内酯中的一种或多种;
和/或,所述酰胺类溶剂为二甲基乙酰胺;
和/或,所述芳烃类溶剂为二甲苯;
和/或,所述酮类溶剂为N-甲基吡咯烷酮。
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