[发明专利]一种光敏剂及含其的i线光刻胶和制备方法在审

专利信息
申请号: 202111188992.1 申请日: 2021-10-12
公开(公告)号: CN115963693A 公开(公告)日: 2023-04-14
发明(设计)人: 方书农;王溯;耿志月;崔中越 申请(专利权)人: 上海新阳半导体材料股份有限公司;上海芯刻微材料技术有限责任公司
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004
代理公司: 上海弼兴律师事务所 31283 代理人: 陈卓
地址: 201616 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 光敏剂 光刻 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种i线光刻胶组合物的制备方法,其特征在于,其包括下列步骤:将i线光刻胶组合物中的各组分混合均匀即可,所述的i线光刻胶组合物包括以下组分:酚醛树脂、光敏剂、有机硅流平剂和有机溶剂;

其中,光敏剂由光敏剂A和光敏剂B组成;所述光敏剂A和光敏剂B的结构如下所示:

所述酚醛树脂为酚醛树脂A和酚醛树脂B的至少一种;

所述酚醛树脂A的制备方法包括下列步骤:在草酸的作用下,将间甲酚、对甲酚、3,5-二甲酚和甲醛进行反应得到;

所述酚醛树脂B的制备方法包括下列步骤:在草酸的作用下,将间甲酚、对甲酚和甲醛进行反应得到;

所述有机硅流平剂可为聚甲基苯基硅氧烷。

2.如权利要求1所述的i线光刻胶组合物的制备方法,其特征在于,

所述光敏剂A以重量份数计为10-20份;

和/或,所述光敏剂B以重量份数计为5-10份;

和/或,所述酚醛树脂以重量份数计为80-100份;

和/或,所述有机硅流平剂在所述i线光刻胶组合物中的浓度为500-2000ppm;

和/或,所述有机溶剂以重量份数计为450-800份。

3.如权利要求2所述的i线光刻胶组合物的制备方法,其特征在于,

所述光敏剂A以重量份数计为10-17份或10-15份;

和/或,所述光敏剂B以重量份数计为5份;

和/或,所述酚醛树脂以重量份数计为80份;

和/或,所述有机硅流平剂在所述i线光刻胶组合物中的浓度为500ppm、1000ppm或2000ppm;

和/或,所述有机溶剂以重量份数计为450份。

4.如权利要求1-3任一项所述的i线光刻胶组合物的制备方法,其特征在于,

所述酚醛树脂为酚醛树脂A、酚醛树脂B或酚醛树脂A和酚醛树脂B的组合;当所述酚醛树脂为酚醛树脂A和B的组合时,酚醛树脂A和酚醛树脂B的质量比优选2:7-7:2;

和/或,所述有机硅流平剂的重均分子量为3000-6000;

和/或,所述有机溶剂为醚类溶剂、酯类溶剂、酰胺类溶剂、芳烃类溶剂和酮类溶剂的一种或多种。

5.如权利要求4所述的i线光刻胶组合物的制备方法,其特征在于,

所述醚类溶剂为乙二醇单甲醚、丙二醇甲醚、苯甲醚、丙二醇单乙醚、二缩乙二醇甲醚和二缩乙二醇乙醚中的一种或多种;

和/或,所述酯类溶剂为丙二醇单甲醚乙酸酯、醋酸丁酯、乙酸乙酯、乳酸乙酯和γ-丁内酯中的一种或多种;

和/或,所述酰胺类溶剂为二甲基乙酰胺;

和/或,所述芳烃类溶剂为二甲苯;

和/或,所述酮类溶剂为N-甲基吡咯烷酮。

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