[发明专利]一种在TFT基板上确定光照区域的装置有效
申请号: | 202111193478.7 | 申请日: | 2021-08-23 |
公开(公告)号: | CN114035353B | 公开(公告)日: | 2023-05-02 |
发明(设计)人: | 李清波;杨猛训;李泉堂;宫向东 | 申请(专利权)人: | 山东蓝贝思特教装集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13;G02F1/133;G02F1/139 |
代理公司: | 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 | 代理人: | 董雪 |
地址: | 250100 山东省济南市历*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 tft 基板上 确定 光照 区域 装置 | ||
本发明公开了一种在TFT基板上确定光照区域的装置,包括:所述TFT基板上阵列状排布若干像素单元,每个像素单元内设有像素电极以及与所述像素电极连接的薄膜场效应晶体管TFT;每一行像素单元对应的TFT至少由一根第一导线连接并供给控制电压;每一列像素单元对应的TFT至少由一根第二导线连接并供给输入电压;所述第二导线与第一电源之间串联连接电阻,电阻与第二导线连接的一端接入比较器或运算放大器的第一输入端,所述比较器或运算放大器的第二输入端输入设定的电压阈值,所述比较器或运算放大器的输出用于检测TFT电流或电压是否发生变化,以确定TFT是否受到设定强度范围的光照照射,并确定光照射的区域。
本申请是专利申请号202110964872X,申请日2021-08-23的分案申请
技术领域
本发明涉及书写定位技术领域,特别是涉及一种在TFT基板上确定光照区域的装置。
背景技术
目前市面上的双稳态液晶书写显示装置(比如书写板或者电子纸),其工作原理是利用液晶的双稳态特性实现书写显示和/或擦除。例如,以胆甾相液晶作为书写板,通过作用在液晶写字板上的压力改变笔头处液晶状态来记录书写笔的书写压力轨迹,进而显示对应的书写内容;通过施加电场使胆甾相液晶结构发生变化,使液晶写字板上的书写压力轨迹消失以实现擦除。
目前,对于书写笔迹的定位,大多采用红外定位、光学或超声/距离传感器定位、电容屏定位或者电磁定位等方式实现;利用红外定位时,需要在液晶书写装置边缘处加上一组或多组红外发射/接收阵列,进行触摸点的定位;利用光学定位时,需要在液晶书写装置上添加至少两个摄像头;利用超声/距离传感器定位时,需要在液晶书写装置上添加两对超声收发传感器才能实现对于待书写区域或待擦除区域的定位与识别;利用电容屏定位或者电磁定位时,需要增加相应的电容屏或者电磁定位结构,增加产品的成本。
上述这些定位方式都需要外置其他元件,即增加了投入成本,增加了液晶书写装置的厚度和体积,影响用户对产品的体验满意度。
TFT半导体沟道在受到光照情况下形成光生载流子,即电子空穴对,电子向高电位方向移动,空穴向低电位方向移动,从而形成空穴漏电流,因此光生载流子对TFT器件的漏电流影响是很明显的。光照时,由于光生载流子的产生,有源层的电导率发生变化,即产生光电导现象,TFT的开、关电流相比于无光照情况下都会有所上升,阈值电压也会发生相应的变化;现有技术中,TFT工艺应用于液晶显示领域时,TFT直接暴露在背光源的照射下,由于光电导效应的影响,会使TFT的阈值电压、“开/关”电流比发生变化,影响显示效果;因此,液晶显示器中通常会对开关元件TFT进行遮光处理,以避免光照对于显示效果的影响。
发明内容
基于此,本发明提出了一种在TFT基板上确定光照区域的装置,基于TFT工艺的基底层,利用TFT光照敏感的特性,当TFT处于临界状态时,接收到设定强度范围光照照射的区域,TFT会导通;进而其源极到漏极的电流会产生明显变化;而未接收到设定强度范围光照照射的区域,TFT不会导通;进而通过检测是否有TFT导通实现对光照区域的定位,并且无需额外增加其他定位辅助元件。
为了实现上述目的,根据本发明的第一个方面,提供了一种在TFT基板上确定光照区域的方法,所述TFT基板上阵列状排布若干像素单元,每个像素单元内设有像素电极以及与所述像素电极连接的薄膜场效应晶体管TFT;
每一行像素单元对应的TFT至少由一根第一导线连接并供给控制电压;
每一列像素单元对应的TFT至少由一根第二导线连接并供给输入电压;
控制TFT处于临界状态,通过检测TFT电流或电压是否发生变化,确定TFT是否受到设定强度范围的光照照射,从而确定光照射的区域;
所述的行和列可互换。
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