[发明专利]粒径呈纳米至微米三峰分布铜粉末及其一次性合成方法与应用

权利要求书

1.粒径呈纳米至微米三峰分布铜粉末，其特征在于：由粒径分别为5–15nm的纳米颗粒铜粉、120–210nm的亚微米颗粒铜粉和1–2μm的微米片铜粉组成；亚微米颗粒铜粉和微米片铜粉表面包覆纳米颗粒铜粉；

所述铜粉末由还原剂与反应液在80–100℃搅拌下反应，反应产物经离心后清洗所得；所述反应液由铜盐、有机酸和有机胺形成的复合分散剂与乙二醇混合所得；

所述有机酸为草酸、乳酸、丙酸、丁酸、柠檬酸和油酸中的一种或多种；

所述有机胺为一乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、一异丙醇胺、二异丙醇胺、三异丙醇胺和油胺的一种或多种；

所述反应液中铜盐的浓度为40–80g/L；所述铜盐、还原剂与复合分散剂在反应液中的摩尔浓度比为1:2:2–4:5:5；所述有机酸和有机胺形成的复合分散剂中的有机酸与有机胺的摩尔比为3:2–5:1；复合分散剂在反应液中的总浓度为400–500g/L。

2.根据权利要求1所述的粒径呈纳米至微米三峰分布铜粉末，其特征在于，所述搅拌下反应的反应时间为10–60min；所述搅拌为机械搅拌，所述机械搅拌的转速为400–600rpm。

3.根据权利要求1所述的粒径呈纳米至微米三峰分布铜粉末，其特征在于，所述铜盐为三水合硝酸铜、一水合乙酸铜、氢氧化铜、氯化铜和硫酸铜中的一种或多种。

4.根据权利要求1所述的粒径呈纳米至微米三峰分布铜粉末，其特征在于，所述还原剂在反应液中的浓度为400–500g/L；所述还原剂为水合肼、次磷酸钠、硼氢化钠和抗坏血酸中的一种或多种。

5.权利要求1-4任一项所述的粒径呈纳米至微米三峰分布铜粉末的一次性合成方法，其特征在于：将还原剂与反应液在80–100℃搅拌下反应，反应产物经离心后清洗；所述反应液由铜盐、有机酸和有机胺形成的复合分散剂与乙二醇混合所得。

6.权利要求1-4任一项所述的粒径呈纳米至微米三峰分布铜粉末在有机柔性基板表面制备高导电线路中的应用。