[发明专利]一种耐磨数码陶瓷釉料

权利要求书

1.一种耐磨数码陶瓷釉料，其特征在于，包括：熔块50~60质量份，高岭土10~20质量份，硅酸锆10~15质量份，氧化锆1~3质量份，锆英石10~20质量份，硫酸钡1~3质量份；

所述硅酸锆的晶体尺寸为500~600nm；

所述硅酸锆的制备方法包括：

取氧氯化锆30~40质量份，正硅酸乙酯15~25质量份，氟化锂0.1~0.5质量份；

将氧氯化锆同3~5倍量的去离子水混合，搅拌均匀，加入氟化锂，再搅拌均匀，得到第一混合液；

将正硅酸乙酯同3~5倍量的去离子水混合，搅拌均匀，调节pH至碱性，得到第二混合液；

将第一混合液和第二混合液混合，调节pH至9~11，搅拌2~12h，得到前驱体，将前驱体同0.8~1倍量的去离子水混合均匀，干燥，得到硅酸锆。

2.根据权利要求1所述的耐磨数码陶瓷釉料，其特征在于，包括：熔块55~60质量份，高岭土15~20质量份，硅酸锆12~15质量份，氧化锆2~3质量份，锆英石13~20质量份，硫酸钡2~3质量份。

3.根据权利要求1所述的耐磨数码陶瓷釉料，其特征在于，包括：熔块55质量份，高岭土15质量份，硅酸锆12质量份，氧化锆2质量份，锆英石13质量份，硫酸钡2质量份。

4.根据权利要求1所述的耐磨数码陶瓷釉料，其特征在于，氧氯化锆38~40质量份，正硅酸乙酯20~25质量份，氟化锂0.2~0.5质量份。

5.根据权利要求1所述的耐磨数码陶瓷釉料，其特征在于，氧氯化锆38质量份，正硅酸乙酯20质量份，氟化锂0.2质量份。

6.根据权利要求1所述的耐磨数码陶瓷釉料，其特征在于，所述熔块为KT1411。

7.根据权利要求1所述的耐磨数码陶瓷釉料，其特征在于，所述耐磨数码陶瓷釉料的制备方法包括：

将熔块、高岭土、硅酸锆、氧化锆、锆英石、硫酸钡混合均匀，加水球磨8~10h，干燥，得到耐磨陶瓷釉料。

8.根据权利要求1所述的耐磨数码陶瓷釉料，其特征在于，所述耐磨数码陶瓷釉料的制备方法包括：

将锆英石和硫酸钡混合均匀，高温烧制，水淬，得到中间粉体；

将中间粉体与熔块、高岭土、硅酸锆、氧化锆混合均匀，加水球磨8~10h，干燥，得到耐磨陶瓷釉料。