[发明专利]一种用于制备催化剂的反应釜

权利要求书

1.一种用于制备催化剂的反应釜，包括釜体(1)，其特征在于：所述釜体(1)内设有搅拌组件(2)和刮料组件(3)，所述釜体(1)上设有加料口与釜体(1)连通，所述釜体(1)外设有驱动件(4)，所述驱动件(4)用于驱动搅拌组件(2)进行搅拌，所述搅拌组件(2)包括搅拌杆(5)，所述搅拌杆(5)上从上至下依次排列设有第一搅拌器(6)、第二搅拌器(7)和第三搅拌器(8)，所述第一搅拌器(6)和第三搅拌器(8)对向设置用于生成轴向流，所述第二搅拌器(7)用于生成径向流，所述釜体(1)底部设有容纳槽(9)，所述第一搅拌器(6)设置于容纳槽(9)中并与搅拌杆(5)固定连接，所述搅拌杆(5)上设有调节组件(10)，所述调节组件(10)用于调节第三搅拌器(8)与液面平齐，所述第二搅拌器(7)设置于第一搅拌器(6)和第三搅拌器(8)之间，所述第二搅拌器(7)用于分别与第一搅拌器(6)和第三搅拌器(8)形成多个分区分布的搅拌涡流。

2.根据权利要求1所述的一种用于制备催化剂的反应釜，其特征在于：所述第一搅拌器(6)和第三搅拌器(8)均包括第一基板(11)和螺旋叶片(12)，所述螺旋叶片(12)沿第一基板(11)中轴线周向环绕设置于第一基板(11)一侧，所述螺旋叶片(12)呈锥状环绕搅拌杆(5)设置，所述第一基板(11)与搅拌杆(5)固定连接，所述第一搅拌器(6)对应的螺旋叶片(12)设置于第一基板(11)上方，所述第三搅拌器(8)对应的螺旋叶片(12)设置于第一基板(11)下方。

3.根据权利要求2所述的一种用于制备催化剂的反应釜，其特征在于：所述第二搅拌器(7)包括搅拌叶片(13)和第二基板(14)，所述第二基板(14)与搅拌杆(5)固定，所述搅拌叶片(13)沿第二基板(14)周向排列设置，所述搅拌叶片(13)与第二基板(14)垂直设置。

4.根据权利要求2所述的一种用于制备催化剂的反应釜，其特征在于：所述调节组件(10)包括齿条(15)和第一弹簧(16)，所述搅拌杆(5)包括滑移段(17)和固定段(18)，所述第一搅拌器(6)和第二搅拌器(7)与固定段(18)固定设置，所述第三搅拌器(8)对应的第一基板(11)上设有滑移孔(19)并套接在滑移段(17)上，所述第三搅拌器(8)对应的第一基板(11)内设有密封气腔(20)并通过浮力在滑移段(17)上滑移，所述滑移段(17)上沿长度方向设有安装槽(21)，所述齿条(15)通过第一弹簧(16)安装在安装槽(21)内，所述第一弹簧(16)用于保持齿条(15)齿顶不伸出安装槽(21)，所述滑移孔(19)上设有抵触齿槽(22)，所述齿条(15)在离心力作用下伸出安装槽(21)与抵触齿槽(22)啮合。

5.根据权利要求1所述的一种用于制备催化剂的反应釜，其特征在于：所述驱动件(4)包括电源和对称固定设置于釜体(1)两侧的永磁体(23)，两侧所述永磁体(23)相斥，所述搅拌杆(5)内设有导电体(24)，所述导电体(24)为U形设置，所述导电体(24)两端均从搅拌杆(5)远离第一搅拌器(6)的一端伸出，所述导电体(24)两端对称设有圆弧状的导电片(25)，两端所述导电片(25)之间留有间隙(26)，所述釜体(1)内对称设有抵触装置(27)和导电块(28)，所述导电块(28)一端与抵触装置(27)连接，另一端分别与电源正极和负极连接，所述抵触装置(27)包括抵触块(29)和第二弹簧(30)，所述釜体(1)内壁对应导电片(25)的位置设有通孔，所述导电块(28)设置于通孔内，所述第二弹簧(30)一端与导电块(28)连接，另一端与抵触块(29)连接，所述第二弹簧(30)用于带动抵触块(29)伸出通孔与导电片(25)抵触。

6.根据权利要求1或5所述的一种用于制备催化剂的反应釜，其特征在于：所述刮料组件(3)包括连接杆(31)、转杆(32)和刮料杆(33)，所述连接杆(31)、转杆(32)和刮料杆(33)均为非磁性材料，所述连接杆(31)沿搅拌杆(5)中轴线垂直设置并与搅拌杆(5)固定连接，所述刮料杆(33)通过转杆(32)与连接杆(31)远离搅拌杆(5)的一端连接，所述转杆(32)一端与连接杆(31)固定连接，另一端与刮料杆(33)转动连接，所述刮料杆(33)为星形或多边形，所述刮料杆(33)与釜体(1)内壁抵触。