[发明专利]曝光装置及曝光方法、以及平面显示器制造方法

权利要求书

1.一种移动体装置，其特征在于，包括：

第一移动体，可沿着包含互相交叉的第一方向及第二方向的既定二维平面移动；

第二移动体，可往所述第一方向与所述第一移动体一起移动；

第一测量系，包含标尺及读头的一方设置于所述第一移动体且所述标尺与所述读头的另一方设置于所述第二移动体的第一编码器系统，基于所述读头的输出求取至少在所述第二方向上的所述第一移动体的位置信息；

第二测量系，求取所述第二移动体的在所述第一方向上的位置信息；以及

位置控制系，基于用来补偿起因于所述标尺或所述读头而产生的所述第一测量系的测量误差的补正信息、与所述第一测量系及所述第二测量系的输出，进行所述第一移动体的所述二维平面内的位置控制。

2.根据权利要求1所述的移动体装置，其特征在于，所述修正信息是补偿因所述标尺的至少一个的变形、位移、平坦性、及形成误差的至少一个而产生的所述第一测量系的测量误差。

3.根据权利要求1所述的移动体装置，其特征在于，于所述第一移动体设置多个所述标尺；

所述读头在往所述第一方向移动期间，来自所述读头的被照射的测量光束从多个所述标尺中的第一标尺脱离，移至所述多个所述标尺中的所述第二标尺。

4.根据权利要求1所述的移动体装置，其特征在于，所述第二测量系包含标尺及读头的一方设置于所述第二移动体，另一方设置于既定固定构件的第二编码器系统。

5.根据权利要求4所述的移动体装置，其特征在于，所述第一测量系的所述第一编码器系统可求取在所述第一方向及第二方向上的所述第一移动体的位置信息；

所述位置控制系基于由所述第二测量系求得的所述第二移动体在所述第一方向上的位置信息、与由所述第一测量系求得的相对于所述第二移动体的所述第一移动体在所述第一方向上的相对位置信息，进行所述第一移动体在所述第一方向上的位置控制。

6.根据权利要求1所述的移动体装置，其特征在于，所述第二移动体，是与所述第一移动体独立地于所述第一方向被驱动。

7.一种曝光装置，其特征在于，包括：

权利要求1所述的移动体装置，既定物体被保持于所述第一移动体；以及

图案形成装置，一边将保持既定图案的图案保持体于所述第二方向驱动，一边使用能量束经由所述图案保持体于所述物体形成所述图案。

8.根据权利要求7所述的曝光装置，其特征在于，所述物体是用于平面显示器的基板。

9.根据权利要求8所述的曝光装置，其特征在于，所述基板至少一边的长度或对角长为500mm以上。

10.一种平面显示器的制造方法，其特征在于，包含：

使用权利要求7所述的曝光装置将所述物体曝光的步骤；以及

将曝光后的所述物体显影的步骤。

11.一种元件制造方法，其特征在于，包括：

使用权利要求7所述的曝光装置将所述物体曝光的步骤；以及

将曝光后的所述物体显影的步骤。