[发明专利]一种集成式光电检测传感器及其制作方法、电子设备在审

专利信息
申请号: 202111202719.X 申请日: 2021-10-15
公开(公告)号: CN113851458A 公开(公告)日: 2021-12-28
发明(设计)人: 刘丽铭;申崇渝;刘国旭 申请(专利权)人: 北京易美新创科技有限公司
主分类号: H01L23/552 分类号: H01L23/552;H01L25/16;H01L23/31;H01L21/50
代理公司: 北京嘉科知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11687 代理人: 陈俊宏
地址: 100176 北京市大兴区北*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 集成 光电 检测 传感器 及其 制作方法 电子设备
【权利要求书】:

1.一种集成式光电检测传感器,其特征在于,包括:

基板,所述基板的上表面设置有第一安装位和第二安装位,所述第一安装位上固定有光发射单元,所述第二安装位上固定有光信号接收单元;

所述基板上还设置有:

第一避光体,所述第一避光体设于所述第一安装位,且所述第一避光体的顶端具有第一开口,通过所述第一开口能够向所述第一避光体的内部区域注入胶体以形成第一保护胶层;

第二避光体,所述第二避光体罩设于所述第二安装位,且所述第二避光体的顶端设置具有第二开口,通过所述第二开口能够向所述第二避光体的内部区域注入胶体以形成第二保护胶层;

其中,所述第一保护胶层和所述第二保护胶层分别覆盖所述光发射单元和所述光信号接收单元,且允许所述光发射单元的光信号通过;所述第一避光体的避光部和所述第二避光体的避光部用于阻止所述光发射单元的光信号通过。

2.根据权利要求1所述的光电检测传感器,其特征在于,所述第一避光体的避光部固定于所述基板上,并与所述基板形成容纳所述光发射单元的第一容纳腔,使得所述胶体能够注入所述第一容纳腔以形成第一保护胶层;

所述第二避光体的避光部固定于所述基板上,并与所述基板形成容纳所述光信号接收单元的第二容纳腔,使得所述胶体能够注入所述第二容纳腔以形成第二保护胶层。

3.根据权利要求1所述的光电检测传感器,其特征在于,所述第一避光体、所述第二避光体分别与所述基板形成碗杯式结构,且所述第一避光体的避光部和所述第二避光体的避光部均设置为黑色。

4.根据权利要求1所述的光电检测传感器,其特征在于,所述第一避光体的避光部包括第一避光部、第二避光部、第三避光部和第四避光部,所述第一避光部、第二避光部、第三避光部和第四避光部环绕所述光发射单元围成上下两端开口的矩形区域;

所述第二避光体的避光部包括第五避光部、第六避光部、第七避光部和第八避光部,所述第五避光部、第六避光部、第七避光部和第八避光部环绕所述光信号接收单元围成上下两端开口的矩形区域。

5.根据权利要求1所述的光电检测传感器,其特征在于,所述第一保护胶层和所述第二保护胶层中均混合有环境光过滤材料或带通性质材料,所述环境光过滤材料用于过滤所述光电检测传感器外界环境可产生干扰的光信号,所述带通性质材料能够使特定波段的光通过。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的光电检测传感器,其特征在于,所述基板的上表面覆盖有第三保护胶层,并且所述第三保护胶层覆盖所述第一避光体和所述第二避光体;

其中,所述第三保护胶层允许所述光发射单元的光信号通过。

7.根据权利要求1至5中任一项所述的光电检测传感器,其特征在于,所述基板的上表面设置有第一导电位、第一导电连接位和第二导电位、第二导电连接位,所述第一安装位设置于所述第一导电位,所述第二安装位设置于所述第二导电位;

其中,位于所述第一安装位的光发射单元通过第一导电线与所述第一连接导电位连通,位于所述第二安装位的光信号接收单元通过第二导电线与所述第二连接导电位连通。

8.根据权利要求7所述的光电检测传感器,其特征在于,所述基板的下表面设置有分别与第一导电位、第一导电连接位、第二导电位、第二导电连接位一一对应的第三导电位、第三导电连接位、第四导电位、第四导电连接位;

在所述基板的两侧分别设置有用于连接所述第一导电位和所述第三导电位的第一通孔、连接所述第一导电连接位和第三导电连接位的第二通孔、连接第二导电位和第四导电位的第三通孔、连接第二导电连接位和第四导电连接位的第四通孔。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京易美新创科技有限公司,未经北京易美新创科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111202719.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top