[发明专利]一种多晶硅尾气回收吸收液的阶梯控制工艺及系统

说明书

本发明为一种多晶硅尾气回收吸收液的阶梯控制工艺及系统。一种多晶硅尾气回收吸收液的阶梯控制工艺，包括：将尾气通过HCL吸收塔吸收后，塔顶气相进行二次纯化；所述的HCL吸收塔中的吸收液依次通过HCL吸收塔底换热器、HCL解析塔底换热器来升温后，通过HCL解析塔中解析HCL；将所述的HCL解析塔中的塔釜液依次通过所述的HCL解析塔底换热器、循环水、所述的HCL吸收塔底换热器、HCL吸收塔的塔顶冷却器降温后，进入所述的HCL吸收塔。本发明所述的一种多晶硅尾气回收吸收液的阶梯控制工艺及系统，将尾气回收高压低温吸收工序中HCL吸收塔吸收液流量控制方式，由传统的固定流量控制方式变更为阶梯控制方式，不仅仅是三步控制，从而实现了精准控制、节能降耗的目的。

技术领域

本发明具体涉及一种多晶硅尾气回收吸收液的阶梯控制工艺及系统。

背景技术

随着多晶硅企业生产工艺的日趋成熟，其工艺的先进性与能耗指标都已达到现阶段的顶峰状态。为了提升企业在行业内的竞争力，提高企业的生命力，需要不断的优化生产工艺、节能降耗，保障企业生产工艺最先进、成本最低，才能达到行业标杆，领先于其他多晶硅企业。

目前，大部分多晶硅企业的尾气回收工序都采用改良西门子法对还原尾气进行回收利用。改良西门子法中将还原尾气中经过低压多级冷凝后的气相部分，采用压缩机升压，并送入HCL吸收塔中，在高压低温工况下采用吸收液吸收掉气相中的大部分HCL及痕量杂质，起到初步纯化氢气的目的。经过初步纯化的氢气继续送入下游吸附塔二次纯化得到纯净的氢气，然后送至还原工序循环利用。液相部分送至下游HCL解析塔，解析掉液相中的HCL及痕量杂质后，作为吸收液循环利用，多余部分液相采出送至精馏工序继续分离。

由于还原工序送来的还原尾气量随着还原炉的开停变化，是一个动态变化的过程，而HCL吸收塔吸收液则是采用与最大还原尾气量匹配的吸收液流量进行固定控制。因此当还原实际尾气量小于最大量时，而HCL吸收塔吸收液流量仍然控制的是与最大还原尾气量相匹配的流量，这样就会造成吸收液富余，增加系统能源单耗，无法达到精准控制，节能降耗的目的。

有鉴于此，本发明提出一种新的多晶硅尾气回收吸收液的阶梯控制工艺及系统，可以实现精准控制，节能降耗。

发明内容

本发明的目的在于提供一种多晶硅尾气回收吸收液的阶梯控制工艺，采用ASPEN软件模拟，结合实际运行工况，在还原尾气流量变化的同时保证外送氢气质量的前提下，找出与实际还原尾气量相匹配的HCL吸收塔吸收液流量，进行阶梯控制，从而达到精准控制，节能降耗的目的。

为了实现上述目的，所采用的技术方案为：

一种多晶硅尾气回收吸收液的阶梯控制工艺，包括以下步骤：

将尾气通过HCL吸收塔吸收后，塔顶气相进行二次纯化；

所述的HCL吸收塔中的吸收液依次通过HCL吸收塔底换热器、HCL解析塔底换热器来升温后，通过HCL解析塔中解析HCL；

将所述的HCL解析塔中的塔釜液依次通过所述的HCL解析塔底换热器、循环水、所述的HCL吸收塔底换热器、HCL吸收塔的塔顶冷却器降温后，进入所述的HCL吸收塔作为吸收液。

进一步地，所述的尾气为还原工序中还原尾气经过多级冷凝工序后的尾气。

进一步地，所述的HCL解析塔中的塔釜液经循环水降温后，通过HCL解析塔底泵输送至所述的HCL吸收塔底换热器。

进一步地，所述的HCL解析塔中的塔釜液在维持吸收液流量后有富余液相时，在经过循环水1降温后，富余液相采出送至下游精馏工序继续分离。

进一步地，所述的HCL解析塔的塔顶气相送入后续工序冷凝分离。

进一步地，所述的HCL吸收塔的塔顶冷却器中采用三氟甲烷进行降温。