[发明专利]一种自清洁型纳米涂料制备设备

说明书

本发明公开了一种自清洁型纳米涂料制备设备，包括底座、支撑架和自上而下依次通过支撑架架设在底座上方的控制箱和搅拌箱；控制箱包括配合连接的旋转组件和间歇升降组件；旋转组件包括第一驱动件和通过旋转轴与之旋转连接的转动盘；间歇升降组件包括进料箱、进料管、滚轮和第一凸起；进料箱通过旋转轴可上下滑动连接在转动盘上方；进料箱底部与进料管上端上下滑动连接，进料管下端穿过控制箱底部通向搅拌箱；滚轮位于进料箱底部且与转动盘滚动连接；第一凸起设置在转动盘上且位于滚轮的滚动路径上。在本发明通过间歇升降组件和旋转组件的配合使原料溶液间歇进入搅拌箱，便于原料溶液的充分混合和搅拌，以得到高质量和高性能的涂料。

技术领域

本发明涉及涂料加工设备技术领域，特别涉及一种自清洁型纳米涂料制备设备。

背景技术

由于自清洁型纳米涂料可以将堆积或吸附的污染性微粒在风雨的冲刷下脱离涂层表面，达到自清洁目的，因此在涂料市场中使用非常广泛，一般纳米涂料是由多种原料混合搅拌制成，混合的效果直接影响到涂料的性能。

现有的自清洁型纳米涂料制备设备，大部分都是采用将多种原料倒入反应釜中进行混合搅拌，但这种方式不但会使各原料之间混合不均匀，影响涂料的质量和性能，而且会增大搅拌的时间，降低制备工作的效率，并加大设备的损耗，十分不便，因此，针对以上现状，迫切需要开发一种自清洁型纳米涂料制备设备，以克服当前实际应用中的不足。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是：提供一种自清洁型纳米涂料制备设备，使原料溶液混合更加充分，以得到高质量和高性能的涂料。

为了解决上述技术问题，本发明采用的技术方案为：

一种自清洁型纳米涂料制备设备，包括底座、固定在底座上方的支撑架、控制箱和搅拌箱；

所述控制箱和所述搅拌箱自上而下依次通过所述支撑架架设在所述底座上方；

所述控制箱包括旋转组件和间歇升降组件，所述旋转组件和所述间歇升降组件相配合连接；

所述旋转组件包括第一驱动件、旋转轴和转动盘，所述第一驱动件设置在所述控制箱外上方并通过所述旋转轴与位于所述控制箱内的所述转动盘旋转连接，用于驱动所述转动盘旋转；

所述间歇升降组件包括进料箱、进料管、滚轮和第一凸起；

所述进料箱通过所述旋转轴可上下滑动连接在所述控制箱内的所述转动盘上方；

所述进料箱底部与所述进料管的上端上下滑动连接，所述进料管的下端固定并穿过所述控制箱底部通向所述搅拌箱；

所述滚轮设置在所述进料箱底部且与所述转动盘顶部滚动连接；

所述第一凸起设置在所述转动盘顶部且位于所述滚轮的滚动路径上，可在所述转动盘的带动下同步旋转且在旋转过程中通过与所述滚轮接触从而推动所述进料箱做间歇升降运动，使所述进料箱内的原料溶液经所述进料管上端间歇流入所述搅拌箱内进行搅拌。

本发明的有益效果在于：本发明提供一种自清洁型纳米涂料制备设备，将控制箱和搅拌箱依次通过支撑架架设在底座上形成整体设备，在控制箱内设置旋转组件和间歇升降组件，当工作人员将各种原料溶液加入到控制箱内的进料箱时，通过第一驱动件和旋转轴带动转动盘转动，由于转动的上表面设有第一凸起，当转动盘转动过程中，若第一凸起部位接触到进料箱底部的滚轮时，能推动进料箱向上运动至最高点，进料箱内的原料溶液的液面会高于进料管的顶端，此时，可使进料箱内的原料溶液经进料管流入搅拌箱；而当转动持续转动，使得第一凸起部位与进料箱底部的滚轮分离时，进料箱会在重力的作用下向下运动至最低点，则进料箱内的原料溶液的液面会低于进料管的顶端，此时进料箱内的原料溶液不会流入搅拌箱内。即通过往复的间歇升降使得原料溶液是分步进入到搅拌箱内进行搅拌的，便于原料溶液的混合和搅拌更加充分，以得到高质量和高性能的涂料。

附图说明