[发明专利]基于介质超表面的太赫兹光束偏折器及其设计方法有效
| 申请号： | 202111218403.X | 申请日： | 2021-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN113885115B | 公开（公告）日： | 2023-08-18 |
| 发明（设计）人： | 黄峰;吴泽波;陈佳强;陈燕青;王向峰 | 申请（专利权）人： | 福州大学 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人： | 丘鸿超;蔡学俊 |
| 地址： | 350108 福建省福州市*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基于 介质 表面 赫兹 光束 偏折器 及其 设计 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种基于介质超表面的太赫兹光束偏折器，其特征在于：首先利用两个一维光栅的周期性排列构建光束偏折器的单元结构；基于入射光偏振态、工作频率、入射角，通过设计固定厚度的光栅及基底尺寸，以排列周期为优化变量调制入射光的相位；
采用二氧化硅作为基底材料和光栅单元材料；
以排列周期为优化变量调制入射光的相位的设计目标为：将大部分入射光散射到+1衍射级，同时抑制其他衍射级的强度，进一步通过调整光栅的厚度和宽度控制入射光通过光栅整列的相位延迟，通过对两个宽度不同的光栅的尺寸、周期排列、基底厚度进行优化，从而获得大偏转角的太赫兹光束偏折器。
2.根据权利要求1所述的基于介质超表面的太赫兹光束偏折器，其特征在于：所述一维光栅结构为反射式或透射式衍射光栅。
3.根据权利要求1所述的基于介质超表面的太赫兹光束偏折器的设计方法，其特征在于：所述一维光栅结构为反射式或透射式衍射光栅；所述排列周期为：p = l/sinq，其中l为入射光波长，q为偏转角。
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