[发明专利]基于可移动透镜系统的弱反射光栅的反射率控制方法、制作装置

权利要求书

1.一种基于可移动透镜系统的弱反射光栅的反射率控制方法，所述弱反射光栅通过激光器发射出的激光经凹透镜、凸透镜、柱面镜整形后被相位掩模版衍射产生相干，在光纤上刻写获得；其特征在于，该方法具体为：

通过至少调整凹透镜的位置实现光纤处光栅长度的调整，进而调整弱反射光栅的反射率。其中，凹透镜与凸透镜之间的距离越大，光纤处光斑长度越小，装置所制作的弱反射光栅的反射率越小。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，根据凸透镜与所述凹透镜之间的距离与光纤处光斑长度的关系调整凹透镜的位置：

其中：

公式中L₁为所述激光器光斑长度、L₂为光纤处光斑长度、d₁为所述凸透镜与所述凹透镜之间的距离、d₂为所述凸透镜与所述柱面透镜之间的距离、f₀为所述凹透镜焦距、f₁为所述凸透镜焦距、f₂为所述柱面镜焦距。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，还包括调整凸透镜、柱面镜的位置。

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，m的绝对值大于40cm，n的绝对值在±3cm之内。

5.一种基于权利要求1-4任一项所述方法的弱反光栅制作装置，其特征在于，包括：激光器、凹透镜、凸透镜、柱面镜、相位掩模版和至少用于调整凹透镜位置的控制装置；其中，激光器发射出激光通过凹透镜、凸透镜、柱面镜整形后被相位掩模版衍射产生相干，在光纤上刻写弱反射光栅。

6.根据权利要求5所述的弱反光栅制作装置，其特征在于，所述控制装置为电动位移台。

7.根据权利要求5所述的弱反光栅制作装置，其特征在于，所述控制装置还用于调整凸透镜、柱面镜的位置。

8.根据权利要求5所述的弱反光栅制作装置，其特征在于，所述相位掩模版为均匀掩模版。