[发明专利]微透镜结构、显示屏幕及电子设备在审
申请号: | 202111231744.0 | 申请日: | 2021-10-22 |
公开(公告)号: | CN114002764A | 公开(公告)日: | 2022-02-01 |
发明(设计)人: | 刘高鹏;穆欣炬;马中生 | 申请(专利权)人: | 义乌清越光电技术研究院有限公司 |
主分类号: | G02B3/00 | 分类号: | G02B3/00;G09F9/30 |
代理公司: | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人: | 林波 |
地址: | 322001 浙江省金华市义乌市北*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 透镜 结构 显示 屏幕 电子设备 | ||
本发明属于光学器件技术领域,公开了一种微透镜结构、显示屏幕及电子设备,其中微透镜结构包括:基底,呈透明结构;发光单元,若干个所述发光单元呈矩阵排列在基底的入光表面;微透镜阵列,设置在基底的出光表面;以及隔离结构,呈网状设置在出光表面并将微透镜阵列分隔若干组微透镜子阵列,每组微透镜子阵列设置在隔离结构围设成的一个网格结构中,隔离结构呈黑色,任意一个发光单元能够沿光轴方向投影在一个网格结构的内侧。黑色的隔离结构呈网状将微透镜阵列分隔若干个微透镜子阵列,发光单元出光后经过微透镜子阵列后会被网格结构阻挡、吸收,进而使这部分光无法进入相邻网格结构中,提高了发光单元与边界的对比度。
技术领域
本发明涉及光学器件技术领域,尤其涉及一种微透镜结构、显示屏幕及电子设备。
背景技术
微透镜阵列是现阶段提升光学器件效率的有效手段,是一种在不改变器件内部结构的前提下提高光量子效率的手段,因其特性在照明领域及显示领域备受科研人员关注。
相对于照明领域,微透镜应用在显示领域上存在弊端,图1是发光单元200的出射光线直接穿设基底100的示意图,图2是发光单元200的出射光线经过基底100上的微透镜阵列(由微透镜单体301组成)的示意图,经过对比,加入微透镜阵列会使得出射光线的出射角增大,使得更多的光线穿设基底100,但同时有部分光线进入基底100的上方对应相邻两个发光单元200之间的第一视觉感受区域1000,导致发光单元200的轮廓模糊,降低了发光单元200与边界的对比度,降低了显示屏幕的清晰度。因此亟需一种微透镜结构解决该技术问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种微透镜结构、显示屏幕及电子设备,以解决现有显示屏幕加入微透镜后降低了发光单元与边界的对比度降低的问题。
为达此目的,本发明采用以下技术方案:
一方面,一种微透镜结构,包括:
基底,呈透明结构;
发光单元,若干个所述发光单元呈矩阵排列在所述基底的入光表面;
微透镜阵列,设置在所述基底的出光表面;以及
隔离结构,呈网状设置在所述出光表面并将所述微透镜阵列分隔若干组微透镜子阵列,每组所述微透镜子阵列设置在所述隔离结构围设成的一个网格结构中,所述隔离结构呈黑色,其中:
任意一个所述发光单元能够沿光轴方向投影在一个所述网格结构的内侧。
黑色的隔离结构呈网状将微透镜阵列分隔若干个微透镜子阵列,且隔离结构围设成的每个网格结构与一个发光单元对应,发光单元出光后经过微透镜子阵列后会被网格结构阻挡、吸收,进而使这部分光无法进入相邻网格结构中,提高了发光单元与边界的对比度。
作为优选,所述基底与所述微透镜阵列一体成型。
能够利用微蚀刻工艺将微透镜阵列制备在基底上,不需要粘接工艺,避免了因粘接造成的元件的损伤,并且不需要粘接对准这一工艺要求。
作为优选,所述发光单元沿光轴方向的投影与所述微透镜子阵列重合。
发光单元沿光轴方向的投影与微透镜子阵列重合,能够出现更多出射光线,提高光效率。
作为优选,所述隔离结构由染黑后的光刻胶制成。
染黑的光刻胶具有较强的吸光特性,光刻胶能够利用黄光工艺直接制备到基底上,该工艺成熟,无需添加设备,降低了生产成本。
作为优选,所述隔离结构的高度不低于所述微透镜阵列中微透镜单体的半径。
隔离结构的高度不低于微透镜单体的半径,能够使尽可能多的光线被隔离结构吸收,从而提高发光单元与边界的对比度。
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