[发明专利]一种可自动调节的在线X荧光分析仪光路装置及使用方法在审
申请号: | 202111236540.6 | 申请日: | 2021-10-23 |
公开(公告)号: | CN113834836A | 公开(公告)日: | 2021-12-24 |
发明(设计)人: | 张伟;吴佰逊;尹兆余;吴耀昕;帅根来;聂崧航;张琦;张辉斌;孙晓艳 | 申请(专利权)人: | 丹东东方测控技术股份有限公司 |
主分类号: | G01N23/223 | 分类号: | G01N23/223 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 118002 辽宁省*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 自动 调节 在线 荧光 分析 仪光路 装置 使用方法 | ||
1.一种可自动调节的在线X荧光分析仪光路装置及使用方法,其特征在于:
在分光壳体(101)的内部,安装晶体台(203);晶体座(202)通过轴销(204)与晶体台(203)连接,晶体座(202)能够以轴销(204)为中心转动;在晶体台(203)上固定有弹簧片(205),弹簧片(205)的翘起部位顶在晶体座(202)的一端;晶体座(202)上固定有分光晶体(206);
分光壳体(101)开有圆孔,圆孔的内部设有螺纹;晶体台(203)开有圆孔,晶体台(203)的圆孔与分光壳体(101)的圆孔是同心的;
涡轮(301)与转轴(302)的一端连接;在转轴(302)的另一端设有螺纹,转轴(302)的螺纹部分与分光壳体(101)连接;转轴(302)的在分光壳体(101)内部的一端接有顶头(303);
分光壳体(101)的外部固定有步进电机(401),步进电机(401)连接有蜗杆(402),蜗杆(402)与涡轮(301)构成蜗轮蜗杆结构;当步进电机(401)旋转时,通过蜗杆(402)带动涡轮(301);
涡轮(301)一侧与转轴(302)连接,另一侧通过联轴器(405)与多圈绝对值编码器(403)连接;多圈绝对值编码器(403)通过电缆与电机控制模块(404)连接,电机控制模块(404)为多圈绝对值编码器(403)提供工作电源及接收信号;步进电机(401)通过电缆与电机控制模块(404)连接,电机控制模块(404)为步进电机(401)提供工作电源及发送控制信号;
分光壳体(101)开有狭缝A(103)和狭缝B(104),X荧光从狭缝A(103)入射,经过分光晶体(206)的反射之后,从狭缝B(104)出射;分光壳体(101)连接有探测器(105),探测器(105)接收从狭缝B(104)出射的X荧光;探测器(105)通过电缆与信号处理器(106)连接,信号处理器(106)为探测器(105)提供工作电源及接收信号;
信号处理器(106)通过电缆与工控机(107)连接,信号处理器(106)将接收到探测器(105)的脉冲信号后,转换为计数率的数字信号传输给工控机(107);
电机控制模块(404)通过电缆与工控机(107)连接。
2.基于权利要求1所述的一种可自动调节的在线X荧光分析仪光路装置及使用方法,其特征为:
通过涡轮(301)的顺时针方向或逆时针方向旋转,可以调节转轴(302)在分光壳体(101)内部空间里的长度。
3.基于权利要求1所述的一种可自动调节的在线X荧光分析仪光路装置及使用方法,其特征为:
顶头(303)的外径为φ2,晶体台(203)的圆孔的内径为φ3,分光壳体(101)的圆孔的内径为φ1,则有φ1φ2φ3。
4.基于权利要求1所述的一种可自动调节的在线X荧光分析仪光路装置及使用方法,其特征为:
当需要将分光晶体(206)调整到最佳位置时,工控机(107)通过电机控制模块(404)控制步进电机(401)的旋转,使晶体座(202)从极限位置1的状态逐渐变化到极限位置2的状态,在该过程中,多圈绝对值编码器(403)的信号传输给电机控制模块(404),经过电机控制模块(404)转换为代表晶体座(202)不同位置的数字化信号后传输给工控机(107);同时信号处理器(106)将接收到探测器(105)的脉冲信号后,转换为计数率的数字信号传输给工控机(107);工控机(107)将数据处理成为谱形;
工控机(107)对谱形进行平滑处理,然后对平滑之后的谱形寻找最大值,最大值的横坐标位置n1所对应的晶体座(202)位置为最佳位置,工控机(107)通过电机控制模块(404)控制步进电机(401)的旋转,使多圈绝对值编码器(403)的信号对应到n1即可。
5.基于权利要求4所述的一种可自动调节的在线X荧光分析仪光路装置及使用方法,其特征为:
工控机(107)对谱形进行平滑处理,所采用的平滑方法为:工控机(107)将数据处理成为谱形,谱形的横轴代表晶体座(202)不同位置,取值范围为1~N,其中极限位置1状态时对应为1,极限位置2状态时对应为N,纵轴为晶体座(202)处于该位置状态下的计数率;
为避免涨落效应,工控机(107)对谱形进行平滑处理,具体的平滑公示为:
当1≤n≤4或N-4≤n≤N时,;
当4nN-4时,;
其中为平滑之前谱形中道址为n的计数率,为平滑之后谱形中道址为n的计数率。
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