[发明专利]一种用于生产集成电路引线框架的蚀刻设备有效
申请号: | 202111239007.5 | 申请日: | 2021-10-25 |
公开(公告)号: | CN113964064B | 公开(公告)日: | 2022-05-03 |
发明(设计)人: | 康亮;康小明;马文龙 | 申请(专利权)人: | 天水华洋电子科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L23/495 |
代理公司: | 北京金宏来专利代理事务所(特殊普通合伙) 11641 | 代理人: | 陆华 |
地址: | 741020 甘肃省*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 生产 集成电路 引线 框架 蚀刻 设备 | ||
1.一种用于生产集成电路引线框架的蚀刻设备,包括支撑座(1),其特征在于,所述支撑座(1)的顶部固定安装有蚀刻池(2),所述蚀刻池(2)用于存放蚀刻液供蚀刻使用,所述蚀刻池(2)的上方设有多个壳体(7),多个所述壳体(7)的顶部共同设有水平传动机构,所述水平传动机构用于带动壳体(7)进行水平传动,所述壳体(7)的底部通过弹性支撑机构固定连接有两个蚀刻板(14),所述弹性支撑机构用于提供维持两个蚀刻板(14)张开的弹性趋势力,所述蚀刻板(14)的侧面开设有放置槽(16),所述蚀刻板(14)的侧面呈线性开设有多个蚀刻孔(15),所述壳体(7)的两侧均设有引导机构,所述引导机构用于对壳体(7)的移动路径进行引导,所述蚀刻池(2)的顶部设有刮液机构,所述刮液机构用于将蚀刻板(14)表面附着的蚀刻液进行刮动,所述蚀刻池(2)的右侧设有清洗机构,所述清洗机构用于将刮动后的蚀刻板(14)表面进行清洗。
2.根据权利要求1所述的一种用于生产集成电路引线框架的蚀刻设备,其特征在于,所述水平传动机构包括驱动齿轮(20)和从动齿轮(21),所述驱动齿轮(20)和从动齿轮(21)的表面共同传动连接有同步带(22),所述同步带(22)的表面等距固定连接有多个气弹簧(19),所述气弹簧(19)的伸缩端与壳体(7)固定连接。
3.根据权利要求1所述的一种用于生产集成电路引线框架的蚀刻设备,其特征在于,所述弹性支撑机构包括空腔(701),所述空腔(701)对称开设在壳体(7)的底部,所述空腔(701)的内壁之间固定连接有矩形块(8),所述矩形块(8)的表面滑动连接有滑动板(9),所述滑动板(9)的侧面与空腔(701)的内壁之间固定连接有第一弹簧(10),所述第一弹簧(10)套设在矩形块(8)的表面上,所述滑动板(9)的下端延伸至壳体(7)外部后与蚀刻板(14)的顶部固定连接。
4.根据权利要求3所述的一种用于生产集成电路引线框架的蚀刻设备,其特征在于,所述引导机构包括第一支撑块(3)、滑动柱(11)和固定柱(12),所述第一支撑块(3)对称固定安装在蚀刻池(2)顶部的边沿处,两个所述第一支撑块(3)的顶部共同固定连接有引导轨(4),所述引导轨(4)的侧面依次设有第一引导面(401)、第二引导面(402)和第三引导面(403),所述引导轨(4)的顶部固定连接有两个第二支撑块(5),两个所述第二支撑块(5)顶部共同固定连接有轨道(6),所述轨道(6)的侧面依次开设有相连通的第一导槽(601)、第二导槽(602)、第三导槽(603)、第四导槽(604)和第五导槽(605),所述滑动柱(11)对称固定连接在壳体(7)面向轨道(6)的两侧,所述滑动柱(11)的一端插设进第一导槽(601)内,所述固定柱(12)固定安装在滑动板(9)面向引导轨(4)的一侧,所述固定柱(12)的端部转动安装有滚珠(13),所述滚珠(13)的侧面与引导轨(4)的侧面相接触。
5.根据权利要求1所述的一种用于生产集成电路引线框架的蚀刻设备,其特征在于,所述刮液机构包括第一刮板(23)、滑轮(17)和两个长块(37),所述第一刮板(23)对称固定安装在蚀刻池(2)的顶部,所述第一刮板(23)的刮动侧与蚀刻板(14)侧面相接触,所述第一刮板(23)的顶部固定安装有两个第一滑杆(32),两个所述第一滑杆(32)的表面共同滑动连接有移动板(34),所述第一滑杆(32)远离蚀刻板(14)的一端与移动板(34)之间固定连接有第三弹簧(33),所述第三弹簧(33)套设在第一滑杆(32)的表面,所述移动板(34)的侧面对称开设有倾斜面,所述移动板(34)的底部固定安装有刮刀(35),所述滑轮(17)对称固定安装在蚀刻板(14)的表面,所述滑轮(17)的侧面与移动板(34)的侧面相接触,两个所述第一刮板(23)的侧面共同固定连接有第二刮板(36),所述第二刮板(36)的刮动侧与蚀刻板(14)的侧面相接触,两个所述长块(37)固定安装在靠近第二刮板(36)一侧的蚀刻池(2)顶部,两个所述长块(37)的顶部共同转动连接有多个吸收卷(38)。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造