[发明专利]一种超分辨激光直写与成像方法及装置

权利要求书

1.一种超分辨激光直写与成像装置，包括用于引发光刻胶产生光聚合反应的光刻胶激发光路；用于抑制光刻胶光产生光聚合反应的光刻胶抑制光路；用于使荧光产生自发辐射荧光的荧光激发光路；用于使荧光产生受激辐射的荧光损耗光路，该荧光损耗光路与抑制光刻胶反应的光刻胶抑制光路为同一光路；光刻胶激发光路、光刻胶抑制光路以及荧光激发光路的合束光路；和超分辨成像探测光路；其特征在于：

所述光刻胶激发光路依次经过第一激光器（1）、第一声光调制器（2）、第一扩束器（3）、第一四分之一波片（4）和第一二向色镜（5）；

所述光刻胶抑制光路与荧光损耗光路依次经过第二激光器（6）、第二声光调制器（7）、第二扩束器（8）、相位掩膜器件（9）、第二四分之一波片（10）和第二二向色镜（11）；

所述荧光激发光路依次经过第三激光器（12）、第三声光调制器（13）、第三扩束器（14）、第三四分之一波片（15）和第三二向色镜（16）；

所述合束光光路依次经过扫描振镜（17）、扫描透镜（18）、第一反射镜（19）、场镜（20）、物镜（21）、高精度移动样品台（22）、光刻胶样品（23）；

所述成像探测光路依次经过物镜（21）、场镜（20）、第一反射镜（19）、扫描透镜（18）、扫描振镜（17）、第三二向色镜（16）、第二二向色镜（11）、第一二向色镜（5）、第二反射镜（24）、汇聚透镜（25）、针孔（26）、光子探测器（27）；

还包括计算机（28），所述计算机（28）与第一声光调制器（2）、第二声光调制器（7）、第三声光调制器（13）、扫描振镜（17）、高精度移动样品台（22）和光子探测器（27）连接。

2.如权利要求1所述的一种超分辨激光直写与成像装置，其特征在于：所述第一激光器（1）可以为连续光激光器，用于引发光刻胶的单光子吸收聚合反应，也可以为皮秒或飞秒脉冲激光器，用于引发光刻胶的双光子吸收聚合反应。

3.如权利要求1所述的一种超分辨激光直写与成像装置，其特征在于：所述第二激光器（6）为连续光激光器或脉冲激光器。

4.如权利要求1所述的一种超分辨激光直写与成像装置，其特征在于：所述第三激光器（12）为脉冲激光器。

5.如权利要求1所述的一种超分辨激光直写与成像装置，其特征在于：所述扫描透镜（18）与场镜（20）共焦。

6.如权利要求1所述的一种超分辨激光直写与成像装置，其特征在于：所述场镜（20）与物镜（21）共焦。