[发明专利]一种多通道并行超分辨激光直写系统在审

专利信息
申请号: 202111241111.8 申请日: 2021-10-25
公开(公告)号: CN113985706A 公开(公告)日: 2022-01-28
发明(设计)人: 匡翠方;孙秋媛;徐良;丁晨良;朱大钊;刘旭;马程鹏;杨臻垚 申请(专利权)人: 之江实验室;浙江大学
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 应孔月
地址: 310023 浙江省杭州市余*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 通道 并行 分辨 激光 系统
【说明书】:

发明公开了一种多通道并行超分辨激光直写系统,包括:用于产生直写路光束的第一激光器、用于产生抑制路光束的第二激光器、至少一个直写‑抑制光束组合单元、二级合束模块和刻写模块,所述直写路光束和所述抑制路光束同时入射到所述直写‑抑制光束组合单元后形成一对直写‑抑制光束组合,之后再依次经过所述二级合束模块和所述刻写模块,形成直写‑抑制光斑组合。本发明将传统单路激光直写打印系统的速度成倍提升。

技术领域

本发明涉及激光直写加工领域,尤其涉及一种多通道并行超分辨激光直写系统。

背景技术

传感器技术是当今信息系统的三大支柱之一,可以极大地拓展人类对自然和社会的感知能力,在未来的物联网和智能社会中将会扮演重要的角色。而微纳制造技术是传感器的发展中的核心角色之一。然而,目前几种主流的微纳制造技术,在产业发展中发挥重要作用的同时,也不可避免的存在着一些方面的不足和缺陷。如极紫外光源可以实现极高精度的纳米刻蚀,但必须依赖光学掩模板和真空的制造环境,且完整的纳米制造光刻机的成本与复杂程度极高;如电子束曝光技术可以在无需掩模板的情况下实现纳米量级的加工精度,但装置价格昂贵且加工速度慢,无法实现大面积制备和工业应用;如单光束激光直写系统,不需要掩模板和真空加工环境,但加工速度较慢,达不到实际生产和应用的要求。

因此在当前的技术背景下,人们急需开发一种可以在常温空气中实现高精度、快速加工制造能力的纳米光刻装置。

发明内容

鉴于此,本发明实施例提供一种高通量的多通道并行超分辨激光直写系统,以解决现有技术中存在的加工速度慢的问题。

根据本发明实施例,提供一种多通道并行超分辨激光直写系统,其特征在于,包括:用于产生直写路光束的第一激光器、用于产生抑制路光束的第二激光器、至少一个直写-抑制光束组合单元、二级合束模块和刻写模块,所述直写路光束和所述抑制路光束同时入射到所述直写-抑制光束组合单元后形成一对直写-抑制光束组合,之后再依次经过所述二级合束模块和所述刻写模块,形成直写-抑制光斑组合。

进一步地,所述直写-抑制光束组合单元包括第一防漂模块、第二防漂模块、第一二级分光模块、第二二级分光模块、第一能量调控模块、第二能量调控模块、第三能量调控模块、第四能量调控模块、第一波前调控模块、第二波前调控模块、第三波前调控模块、第四波前调控模块、第一一级合束模块和第二一级合束模块,其中:

所述直写路光束依次经过所述第一防漂模块和第一二级分光模块后形成第一直写路子光束和第二直写路子光束,所述第一直写路子光束依次经过第一能量调控模块和所述第一波前调控模块,所述第二直写路子光束依次经过第二能量调控模块和所述第二波前调控模块

所述抑制路光束依次经过所述第二防漂模块和第二二级分光模块后形成第一抑制路子光束和第二抑制路子光束,所述第一抑制路子光束依次经过第三能量调控模块和所述第三波前调控模块,所述第二抑制路子光束依次经过第四能量调控模块和所述第四波前调控模块;

所述第一波前调控模块和所述第三波前调控模块出射的光束通过所述第一一级合束模块后形成一路直写-抑制光束组合;所述第二波前调控模块和所述第四波前调控模块出射的光束通过所述第二一级合束模块后形成另一路直写-抑制光束组合。

进一步地,所述第一防漂模块和第二防漂模块用于光路的稳定和自适应调节。

进一步地,所述第一二级分光模块用于将所述直写路光束分为偏振方向互相垂直的第一直写路子光束和第二直写路子光束;

所述第二二级分光模块用于将抑制路光束分为偏振方向互相垂直的第一抑制路子光束和第二抑制路子光束。

进一步地,所述第一能量调控模块、第二能量调控模块、第三能量调控模块和第四能量调控模块用于对光束能量稳定和通断调控。

进一步地,所述第一波前调控模块和第二波前调控模块用于对光束的两个偏振分量进行调制。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于之江实验室;浙江大学,未经之江实验室;浙江大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111241111.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top