[发明专利]一种叉指电容、弯曲传感器及其制作方法

权利要求书

1.一种叉指电容，其特征在于，包括电极层，所述电极层包括第一电极和第二电极；

所述第一电极包括若干相互间隔设置的第一叉指部，相邻两所述第一叉指部之间预留有第一安装腔；所述第二电极包括若干相互间隔设置的第二叉指部，相邻两所述第二叉指部之间预留有第二安装腔；

所述第一叉指部伸入设置在所述第二安装腔内、所述第二叉指部伸入设置在所述第一安装腔内以呈互补式设置并形成所述电极层，且所述第一电极与所述第二电极之间预留有安装间隙，所述电极层的截面呈波浪形。

2.根据权利要求1所述的一种叉指电容，其特征在于，所述第一电极、第二电极的截面呈波浪形，且所述第一电极、第二电极在互补式设置后的截面的波浪形相重叠。

3.根据权利要求1或2所述的一种叉指电容，其特征在于，在所述电极层的两侧面上设置有薄膜塑料层。

4.根据权利要求3所述的一种叉指电容，其特征在于，所述薄膜塑料层由Parylene C制成。

5.根据权利要求1或4所述的一种叉指电容，其特征在于，在所述电极层的两侧面的外侧还设置有超弹性材料层。

6.根据权利要求5所述的一种叉指电容，其特征在于，所述超弹性材料层由PDMS制成。

7.一种弯曲传感器，其特征在于，包括中性连接层，所述中性连接层包括相对平行设置的一组第一安装面，所述第一安装面上分别设置有上述权利要求1-6任一项中所述的一种叉指电容。

8.根据权利要求7所述的一种弯曲传感器，其特征在于，所述中性连接层还包括相对平行设置的一组第二安装面，所述第二安装面之间的垂线与所述第一安装面之间的垂线呈角度相交；

所述第二安装面上分别设置有所述叉指电容。

9.一种叉指电容的制备方法，适用于上述权利要求1-6任一项所述的一种叉指电容，其特征在于，包括以下步骤：

S10.对单个硅晶片进行湿氧化处理以形成二氧化硅层，在二氧化硅层上第一次旋涂光刻胶后，对二氧化硅层进行蚀刻以形成波浪结构模型，然后第二次喷涂光刻胶以在波浪结构模型表层形成牺牲层；

S20.在所述波浪结构模型的表面上第一次蒸镀塑料薄膜层以形成柔性基板，在形成的柔性基板上进行光刻胶的第三次喷涂后，对第三次喷涂后形成的光刻胶层进行图案化处理，并在图案化处理后溅射一层电极层，以在所述波浪结构模型的表面上获得所述第一电极、第二电极，然后再在形成的所述电极层的表面上第二次蒸镀所述塑料薄膜层；

S30.将第二次蒸镀的所述塑料薄膜层的表面活化为亲水表面，然后在活化后的表面上第一次填充超弹性材料以形成超弹性材料层；

S40.在所述牺牲层处将结构层与波浪结构模型进行分离，然后将第一次蒸镀的所述塑料薄膜层的表面活化为亲水表面，然后在活化后的表面上第二次填充超弹性材料以形成超弹性材料层；

S50.对步骤S40处理后的器件进行切割以获得叉指电容，并在切割后的所述叉指电容上旋涂一层防护层。

10.一种弯曲传感器的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

设置中性连接层，并将权利要求9中所制得的所述叉指电容成对地粘合设置在所述中心连接层的相对面上。