[发明专利]一种消除中硼硅药用玻璃浮渣的方法及玻璃熔窑结构有效

专利信息
申请号: 202111251992.1 申请日: 2021-10-25
公开(公告)号: CN113845291B 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 田英良;赵志永 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: C03B5/03 分类号: C03B5/03;C03B5/235
代理公司: 北京汇信合知识产权代理有限公司 11335 代理人: 林聪源
地址: 100124 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 消除 中硼硅 药用 玻璃 浮渣 方法 结构
【权利要求书】:

1.一种消除中硼硅药用玻璃浮渣的方法,中硼硅药用玻璃的熔化在玻璃熔窑中实现,其特征在于,

所述玻璃熔窑所用能量由气态燃料和电能提供,电能提供熔化用能的60%-80%,气态燃料提供熔化用能的20%-40%;

在玻璃熔窑的预熔区、澄清区和冷却区底部布设电极;其中,在所述预熔区中垂直于玻璃液的流向且横向布设多排第一组电极;在所述澄清区中垂直于玻璃液的流向且横向布设多排第二组电极;在所述冷却区中沿玻璃液的流向且纵向布设一排第三组电极。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,气态燃料燃烧所用氧源为空气提供。

3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,气态燃料的燃烧用于维持玻璃液表面温度处于1580℃-1620℃。

4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一组电极、第二组电极和第三组电极材质为钼电极。

5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一组电极布设2排,共计12根,所述第一组电极的间距为400mm -600mm。

6.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第二组电极布设3排,共计18根,所述第二组电极的间距为400mm -600mm。

7.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第三组电极的间距为300mm -500mm。

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