[发明专利]相干断层扫描装置及方法在审
申请号: | 202111260516.6 | 申请日: | 2021-10-28 |
公开(公告)号: | CN113984715A | 公开(公告)日: | 2022-01-28 |
发明(设计)人: | 吴笛 | 申请(专利权)人: | 上海盛晃光学技术有限公司 |
主分类号: | G01N21/49 | 分类号: | G01N21/49 |
代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 王辉;阚梓瑄 |
地址: | 201203 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 相干 断层 扫描 装置 方法 | ||
1.一种相干断层扫描装置,其特征在于,包括:
光源组件,所述光源组件由宽谱光源器件、色散器件和数字微镜组成,所述宽谱光源器件发出的光线依次经过所述色散器件和所述数字微镜,所述光源组件为所述相干断层扫描装置提供光源输出;
干涉组件,所述干涉组件设置在所述光源组件的光线出口处,所述光源组件发出的光线在所述干涉组件中进行分光和干涉;
光电探测组件,所述光电探测组件设置在所述干涉组件的干涉光线出口处,所述光线探测组件用于获取所述干涉光线的光强分布。
2.根据权利要求1所述的相干断层扫描装置,其特征在于,
所述光源组件还包括多个光学聚焦元件,所述光学聚焦元件设置在所述宽谱光源元件、所述色散元件和所述数字微镜之间。
3.根据权利要求2所述的相干断层扫描装置,其特征在于,
所述光学聚焦元件为聚焦透镜或反射型聚焦光学器件。
4.根据权利要求1所述的相干断层扫描装置,其特征在于,
所述光源组件的光源输出方式为光波导输出或空间光输出。
5.根据权利要求1所述的相干断层扫描装置,其特征在于,
所述光源组件还包括分光元件,所述分光元件用于对所述宽谱光源元件发出的光线进行分光。
6.根据权利要求1所述的相干断层扫描装置,其特征在于,
所述宽谱光源器件发出的光源的波长范围大于等于10nm,所述宽谱光源器件的中心波长在300-2500nm范围内。
7.根据权利要求1所述的相干断层扫描装置,其特征在于,
所述宽谱光源器件的输出光功率大于等于0.1mW。
8.一种相干断层扫描方法,其特征在于,包括:
启动光源组件,所述光源组件发出的平行光线进入干涉组件中,所述平行光线被所述干涉组件中的分光元件分为第一光束和第二光束;
所述第一光束照射在预先设置的样品上,并被所述样品反射形成第一反射光束,所述第二光束照射在所述干涉组件中的反射元件上,并被所述反射元件反射形成第二反射光束;
所述第一反射光束与所述第二反射光束沿原光路回到所述分光元件中,并在所述分光元件中发生干涉,形成干涉光束;
所述干涉光束进入光电探测组件中,并在所述光电探测组件中形成所述样品的二维光强分布。
9.根据权利要求8所述的相干断层扫描方法,其特征在于,
所述在所述光电探测组件中形成所述样品的二维光强分布之后包括:
根据所述样品的二维光强分布,通过光线在不同波长的分布,分析计算并构建所述样品的三维结构图像。
10.根据权利要求9所述的相干断层扫描方法,其特征在于,
所述构建所述样品的三维结构图像还包括:
获取预设标定样品的标定参数和所述样品的三维结构图像参数,处理所述标定参数和所述样品的三维结构图像参数,重构所述样品的三维结构图像参数,得到所述样品的真实三维结构图像。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海盛晃光学技术有限公司,未经上海盛晃光学技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111260516.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。