[发明专利]等离子体处理装置

权利要求书

1.一种用于对被处理体进行等离子体处理的等离子体处理装置，其特征在于，包括：

具有侧壁的处理容器，该侧壁形成有被处理体的搬入搬出用的输送通路；

设置于所述处理容器内的载置台；

以包围所述载置台的方式沿所述侧壁的内表面设置的遮护部件，其形成有面对所述输送通路的开口；

所述遮护部件的开口用的可升降的闸门；

使所述闸门升降的第1驱动部；和

使所述闸门相对于所述遮护部件在前后方向移动的第2驱动部。

2.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述第2驱动部具有将所述闸门向所述遮护部件按压的一个驱动轴。

3.如权利要求2所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述第1驱动部具有与所述闸门的连接部连接的用于使所述闸门升降的升降用驱动轴，

所述驱动轴按压所述连接部。

4.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述第2驱动部具有将所述闸门向所述遮护部件按压的多个驱动轴。

5.如权利要求1～4中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于：

包括以包围所述开口的方式配置于所述遮护部件的导电部件。

6.如权利要求1～5中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于：

包括以包围与所述开口对应的所述闸门的区域的方式配置于所述闸门的导电部件。