[发明专利]一种可应用于强光环境下的偏光片在审

专利信息
申请号: 202111261711.0 申请日: 2021-10-28
公开(公告)号: CN113759592A 公开(公告)日: 2021-12-07
发明(设计)人: 罗益滨 申请(专利权)人: 深圳市茂晶源光电有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02B5/30;G02B1/10
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518000 广东省深圳市光明区*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 应用于 强光 环境 偏光
【权利要求书】:

1.一种可应用于强光环境下的偏光片,其特征在于,包括一双面透射式偏光片,所述双面透射式偏光片的吸收轴为曲线,所述双面透射式偏光片采用聚(苯乙烯-嵌段-甲基丙烯酸正丁酯)与金属纳米氧化锆颗粒制成;

所述双面透射式偏光片具有第一表面和与第一表面相对设置的第二表面,所述第一表面上设置有第一导光层,所述第一导光层上设置有第一保护膜,所述第一保护膜上依次设置有第一透光基板和第二透光基板,所述第一透光基板与所述第二透光基板之间设置有第一偏光片,所述第一偏光片包括沿垂直于所述双面透射式偏光片平面方向延伸的的多个第一柱形体,多个所述第一柱形体等间距设置,相邻两个所述第一柱形体之间形成一第一光路通道,所述第二透光基板上设置有第一抗导热层,所述第一抗导热层内部设置有多个微孔,所述第一抗导热层上设置有第一增亮膜;

所述第二表面上设置有第二导光层,所述第二导光层上设置有第二保护膜,所述第二保护膜上依次设置有第三透光基板和第四透光基板,所述第三透光基板与所述第四透光基板之间设置有第二偏光片,所述第二偏光片包括沿垂直于所述双面透射式偏光片平面方向延伸的的多个第二柱形体,多个所述第二柱形体等间距设置,相邻两个所述第二柱形体之间形成一第二光路通道,所述第四透光基板上设置有第二抗导热层,所述第二抗导热层内部设置有多个微孔,所述第二抗导热层上设置有第二增亮膜;

其中,所述第一柱形体与所述第二柱形体均由PVA经过光固化而成;所述双面透射式偏光片的偏光度不低于50%,透过率不低于44%。

2.如权利要求1所述的可应用于强光环境下的偏光片,其特征在于:所述第一偏光片的吸收轴与所述第二偏光片的吸收轴平行设置。

3.如权利要求1所述的可应用于强光环境下的偏光片,其特征在于:所述第一抗导热层与所述第二抗导热层均由聚甲基丙烯酸甲酯制成,其微孔的分布率为5-8%。

4.如权利要求1所述的可应用于强光环境下的偏光片,其特征在于:金属纳米氧化锆颗粒经过表面处理,具有对聚(苯乙烯-嵌段-甲基丙烯酸正丁酯)的亲和力;金属纳米氧化锆颗粒嵌入到聚(苯乙烯-嵌段-甲基丙烯酸正丁酯)内部,金属纳米氧化锆颗粒的直径低于100纳米。

5.如权利要求1所述的可应用于强光环境下的偏光片,其特征在于:所述第一柱形体的竖直延伸长度大于其横向宽度,横向宽度大于第一光路通道的宽度;所述第二柱形体的竖直延伸长度大于其横向宽度,横向宽度大于第二光路通道的宽度,所述第一光路通道与所述第二光路通道的宽度均为15-20nm。

6.如权利要求1所述的可应用于强光环境下的偏光片,其特征在于:所述第二增亮膜上设置有胶粘层,所述胶粘层上设置有离型膜。

7.如权利要求1所述的可应用于强光环境下的偏光片,其特征在于:所述第一透光基板、第二透光基板、第三透光基板以及第四透光基板的结构相同,均为聚酯基片。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市茂晶源光电有限公司,未经深圳市茂晶源光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111261711.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top