[发明专利]一种导光柱的磨砂方法、装置及光学设备在审
申请号: | 202111262647.8 | 申请日: | 2021-10-28 |
公开(公告)号: | CN113941926A | 公开(公告)日: | 2022-01-18 |
发明(设计)人: | 李枭宁 | 申请(专利权)人: | 杭州涂鸦信息技术有限公司 |
主分类号: | B24B13/00 | 分类号: | B24B13/00;B24B49/12 |
代理公司: | 深圳市深佳知识产权代理事务所(普通合伙) 44285 | 代理人: | 林志鹏 |
地址: | 310013 浙江省杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光柱 磨砂 方法 装置 光学 设备 | ||
本发明公开了一种导光柱的磨砂方法,包括预先采用不同的磨砂方式对导光柱进行磨砂仿真处理,得到多个磨砂仿真结果;根据磨砂仿真结果确定出最优的目标磨砂方式和目标磨砂参数;依据目标磨砂方式和目标磨砂参数对导光柱进行打磨处理,得到磨砂后的导光柱;本发明中是预先通过仿真的方式对导光柱在不同磨砂方式下进行磨砂仿真处理,得到与每种磨砂方式对应的磨砂仿真结果,根据各个磨砂仿真结果进一步确定出最优的目标磨砂方式和目标磨砂参数,然后再采用该目标磨砂方式和目标磨砂参数对导光柱进行实际打磨加工处理,使磨砂后的导光柱效果较优,减少返工率,节约生成,提高生产效率。
技术领域
本发明涉及光学设备技术领域,特别是涉及一种导光柱的磨砂方法、装置及光学设备。
背景技术
现在一些小型的双光源摄像头中,为了追求外观美观,白光灯的透光孔需要做小,但是将白光灯的透光孔做小的话又会影响到发光角度,导致中心亮、边缘暗的手电筒现象。为了解决这个问题,一般会加入导光柱来扩大发光角度,导光柱分为两种,一种是里面加了光扩散剂,扩散效果较好,但是价格比较高;另一种是直接对表面打磨,表面磨砂可以起到一定光的散射作用,使得发光更均匀,价格更有优势。
目前,对导光柱磨砂的实际打磨效果都是依赖于对实物样品进行检验,若效果不好则需要返工,导致原材料的浪费,生产效率低,产品成本较高。
鉴于此,如何提供一种解决上述技术问题的导光柱的磨砂方法、装置及光学设备成为本领域技术人员需要解决的问题。
发明内容
本发明实施例的目的是提供一种导光柱的磨砂方法、装置及光学设备,在使用过程中能够提高导光柱磨砂效果,减少返工率,节约生成,提高生产效率。
为解决上述技术问题,本发明实施例提供了一种导光柱的磨砂方法,包括:
预先采用不同的磨砂方式对导光柱进行磨砂仿真处理,得到多个磨砂仿真结果;
根据所述磨砂仿真结果确定出最优的目标磨砂方式和目标磨砂参数;
依据所述目标磨砂方式和所述目标磨砂参数对所述导光柱进行打磨处理,得到磨砂后的导光柱。
可选的,所述预先采用不同的磨砂方式对导光柱进行磨砂仿真处理,得到多个磨砂仿真结果的过程为:
针对导光柱预先设置多种磨砂方式及与每种所述磨砂方式对应的磨砂参数;
基于多种所述磨砂方式和对应的磨砂参数对所述导光柱分别进行磨砂仿真处理,得到多个磨砂仿真结果;所述磨砂仿真结果包括光强信息。
可选的,所述根据所述磨砂仿真结果确定出最优的目标磨砂方式和目标磨砂参数的过程为:
根据所述磨砂仿真结果中的光强信息,确定出光强分布均匀度最高、光强最大的磨砂方式,并将所述磨砂方式作为最优的目标磨砂方式;
将与所述目标磨砂方式对应的磨砂参数作为最优的目标磨砂参数。
可选的,所述磨砂方式包括无磨砂、上表面磨砂、下表面磨砂和上下表面均磨砂;所述磨砂参数包括漫射率和无漫射率。
本发明实施例还提供了一种导光柱的磨砂装置,包括:
仿真模块,用于预先采用不同的磨砂方式对导光柱进行磨砂仿真处理,得到多个磨砂仿真结果;
筛选模块,用于根据所述磨砂仿真结果确定出最优的目标磨砂方式和目标磨砂参数;
磨砂模块,用于依据所述目标磨砂方式和所述目标磨砂参数对所述导光柱进行打磨处理,得到磨砂后的导光柱。
可选的,所述仿真模块包括:
预设单元,用于针对导光柱预先设置多种磨砂方式及与每种所述磨砂方式对应的磨砂参数;
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