[发明专利]多孔玻璃基材的制造方法和制造设备

权利要求书

1.一种多孔玻璃基材的制造方法，其中，

通过将作为原料的液体有机硅氧烷与载气在气化器中混合，通过从由加热器单元加热的所述气化器的内壁产生的热使混合物气化，将气化的气体原料供给至燃烧器，并且将通过气体原料的燃烧产生的玻璃颗粒沉积在起始材料上来制造多孔玻璃基材，

其中控制所述加热器单元的加热输出以满足所述气化器的内壁的最高温度为230℃以下的温度要求。

2.根据权利要求1所述的多孔玻璃基材的制造方法，其中控制所述加热器单元的加热输出以满足所述最高温度为210℃以下的温度要求。

3.根据权利要求1所述的多孔玻璃基材的制造方法，其中控制所述加热器单元的加热输出以满足所述气化器的内壁的最高温度与最低温度之间的温度差在30℃内的温度要求。

4.根据权利要求3所述的多孔玻璃基材的制造方法，其中控制所述加热器单元的加热输出以满足所述温度差在15℃内的温度要求。

5.根据权利要求1所述的多孔玻璃基材的制造方法，其中进一步根据供给至所述气化器的有机硅氧烷原料液的流量，控制所述载气的流量和预热温度以满足所述温度要求。

6.根据权利要求1所述的多孔玻璃基材的制造方法，

其中用于测量所述气化器的内壁的温度的测温点设置在多个位置处，

其中在制造所述多孔玻璃基材时的所述气化器的操作条件下，在改变所述加热器单元的加热输出的同时，预先收集在相同的测量时间的各测温点的多组测量值，提取满足温度要求的组中的一组，并且将构成所提取的一组的测温点中的一个的测量值设定为目标温度，和

其中控制所述加热器的加热输出，使得在一个测温点处的测量值指示在制造多孔玻璃基材期间的目标温度。

7.根据权利要求1所述的多孔玻璃基材的制造方法，

其中所述加热器单元包括安装在所述气化器的内壁的多个区域各自中的独立系统中的多个加热器，

其中用于测量所述内壁的温度的测温点设置在各区域中，和

其中控制所述加热器单元的加热输出，使得在各测温点的测量值满足所述温度要求。

8.根据权利要求1所述的多孔玻璃基材的制造方法，

其中所述加热器单元可调节所述气化器的内壁的多个区域的发热密度，

其中用于测量所述内壁的温度的测温点设置在各区域中，和

其中在制造多孔玻璃基材时的所述气化器的操作条件下用所述加热器单元加热所述内壁并且调节在各区域中的加热器单元的发热密度使得在各测温点的测量值预先满足温度要求之后，制造所述多孔玻璃基材。

9.根据权利要求1所述的多孔玻璃基材的制造方法，其中所述有机硅氧烷原料是八甲基环四硅氧烷。

10.一种多孔玻璃基材的制造设备，其中通过将作为原料的液体有机硅氧烷与载气在气化器中混合，通过从由加热器单元加热的所述气化器的内壁产生的热使混合物气化，将气化的气体原料供给至燃烧器，并且将通过气体原料的燃烧产生的玻璃颗粒沉积在起始材料上来制造多孔玻璃基材，

其中所述制造设备包括控制单元，该控制单元控制所述加热器单元的加热输出以满足所述气化器的内壁的最高温度为230℃以下的温度要求。

11.根据权利要求10所述的多孔玻璃基材的制造设备，其中所述控制单元控制所述加热器单元的加热输出以满足所述最高温度为210℃以下的温度要求。

12.根据权利要求10所述的多孔玻璃基材的制造设备，其中所述控制单元控制所述加热器单元的加热输出以满足所述气化器的内壁的最高温度与最低温度之间的温度差在30℃内的温度要求。

13.根据权利要求12所述的多孔玻璃基材的制造设备，其中所述控制单元控制所述加热器单元的加热输出以满足所述温度差在15℃内的温度要求。