[发明专利]一种可变阴极面积的微弧氧化装置及表面处理方法

权利要求书

1.一种可变阴极面积的微弧氧化装置，其特征在于，包括微弧氧化槽、循环槽、升降机构、冷却循环机构和电源机构；

所述微弧氧化槽上开设有注入口、流出口和工件通道，所述流出口端设有液位控制件；所述工件通道位于所述微弧氧化槽的底部，且所述工件通道的宽度大于工件的宽度；

所述微弧氧化槽内设有阴极构件，所述阴极构件分别位于所述工件通道宽度方向的两侧，且所述阴极构件与所述电源机构的负极连接；

所述微弧氧化槽的上方设有所述升降机构，所述升降机构上设有阳极构件，所述阳极构件与所述电源机构的正极连接；所述升降机构能够带动工件在所述微弧氧化槽内向下运动并穿过所述工件通道；

所述微弧氧化槽的下方设有所述循环槽，所述循环槽上设有循环入口和循环出口，所述冷却循环机构连通所述流出口与所述循环入口，以及连通所述循环出口与所述注入口，并能够冷却所述循环出口流向注入口之间的电解液。

2.根据权利要求1所述的可变阴极面积的微弧氧化装置，其特征在于，所述微弧氧化槽底部设有两个限位板，两个所述限位板分别位于所述工件通道宽度方向的两侧，且每个所述限位板在长度方向设有多个键槽。

3.根据权利要求2所述的可变阴极面积的微弧氧化装置，其特征在于，每个所述限位板包括自上向下依次叠合的压板、密封板和支撑板，且所述密封板的宽度大于所述支撑板的宽度大于所述压板的宽度。

4.根据权利要求1所述的可变阴极面积的微弧氧化装置，其特征在于，所述阴极构件包括多个不锈钢阴极板和阴极铜排；

多个所述不锈钢阴极板均匀设于所述微弧氧化槽的内壁，并位于所述工件通道的宽度方向的两侧，所述阴极铜排串联多个所述不锈钢阴极板。

5.根据权利要求4所述的可变阴极面积的微弧氧化装置，其特征在于，每个所述不锈钢阴极板的背离所述微弧氧化槽内壁的端部设有绝缘板，所述绝缘板内开设有容纳空腔以及多个连通所述容纳空腔的布气通孔，所述容纳孔腔连接空气压缩机构，多个所述布气通孔位于所述绝缘板的背离所述不锈钢阴极板的端部。

6.根据权利要求1所述的可变阴极面积的微弧氧化装置，其特征在于，所述微弧氧化槽上还开设有溢流口，所述溢流口位于所述微弧氧化槽的槽口处。

7.一种可变阴极面积的微弧氧化表面处理系统，其特征在于，包括权利要求1-6任一所述的可变阴极面积的微弧氧化装置以及第一清洗单元、第二清洗单元和烘干单元；

所述第一清洗单元、所述可变阴极面积的微弧氧化装置、所述第二清洗单元和所述烘干单元依次连接。

8.一种可变阴极面积的微弧氧化表面处理方法，其特征在于，包括：

清洗工件；

利用所述可变阴极面积的微弧氧化装置对清洗后的工件进行微弧氧化；

清洗微弧氧化后的工件；

烘干工件。

9.根据权利要求8所述的可变阴极面积的微弧氧化表面处理方法，其特征在于，所述微弧氧化的电解液包括硅酸钠10g/L、氟化钠或氟化钾10g/L、氢氧化钠或氢氧化钾10g/L以及余量水。

10.一种根据权利要求9所述的可变阴极面积的微弧氧化表面处理方法在制造板材陶瓷氧化膜层和合金板材中的应用。