[发明专利]一种红外隐身透波一体化超材料涂层及其制备方法

权利要求书

1.一种红外隐身透波一体化超材料涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)将无机粉体和有机树脂混合后研磨，得到刮平料；

(2)将刮平料与固化剂混合并搅拌均匀，得到混合料，利用混合料按照面密度200～350g/m²对基材进行刮平处理；

(3)将刮平处理后的基材依次进行研磨和抛光处理；

(4)利用高折射层膜料和低折射率层膜料在抛光处理后的基材表面进行交替镀膜，得到一种红外隐身透波一体化超材料涂层；所述用高折射层膜料为Ge或Si，所述低折射率层膜料为ZnS，SiO₂或YbF₃的一种或一种以上。

2.根据权利要求1所述的一种红外隐身透波一体化超材料涂层的制备方法，其特征在于，所述基材为石英纤维增强二氧化硅或石英纤维增强聚酰亚胺。

3.根据权利要求1所述的一种红外隐身透波一体化超材料涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中，无机粉体为SiO₂或SiN₄中的一种或两种的混合物；有机树脂为有机硅树脂或有机氟树脂中的一种或两种的混合物。

4.根据权利要求1所述的一种红外隐身透波一体化超材料涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中，无机粉体和有机树脂的质量比为1.0～1.5:1。

5.根据权利要求1所述的一种红外隐身透波一体化超材料涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中，将无机粉体和有机树脂混合后研磨的具体方法为，采用三辊研磨法研磨≥3遍；

所述步骤(1)中，所得刮平料的细度≤80μm。

6.根据权利要求1所述的一种红外隐身透波一体化超材料涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中，固化剂为二月桂酸二丁基锡，将刮平料与固化剂按照质量比为100:1～3混合并搅拌，得到混合料；

所述步骤(2)中，利用混合料按照面密度200～350g/m²对基材进行刮平处理的具体方法为，利用细刮板将混合料按照面密度200～350g/m²在基材表面刮平，并在80～100℃下固化4h。

7.根据权利要求1所述的一种红外隐身透波一体化超材料涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤(3)中，研磨处理的具体方法为，将刮平处理后的基材置于转速为30～50r/min的研磨盘上，使用直径为5～10μm的金刚石颗粒，在0.8～1.2MPa压力下对刮平处理后的基材研磨20～30min；

所述步骤(3)中，抛光处理的具体方法为，将研磨处理后的基材置于转速为40～80r/min的抛光盘上，使用直径0.8～1.2μm的BN颗粒，在1.5～2.5MPa压力下对研磨处理后的基材抛光40～60min，得到表面粗糙度≤5000A的基材。

8.根据权利要求1所述的一种红外隐身透波一体化超材料涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤(4)中，利用高折射层膜料和低折射率层膜料在抛光处理后的基材表面进行交替镀膜的方法为：

(41)将抛光处理后的基材置于镀膜机的工件盘内，将镀膜机腔室真空度降至≤4×10^-4Pa；

(42)利用离子源对抛光处理后的基材进行离子清洁，具体条件为，离子束流为180～220mA，电子束流为330～370mA，屏极电压为380～320V，氩气流量为8～12sccm；

(43)使工件盘以20～40r/min的速度进行公转并保持烘烤温度为50～70℃，使离子束流保持为180～220mA，利用电子枪轰击高折射层膜料或低折射率层膜料进行交替蒸发镀膜；

(44)蒸发镀膜完成后，继续保持镀膜机腔室真空度和烘烤温度≥20min，得到一种红外隐身透波一体化超材料涂层。