[发明专利]金属化薄膜及其制造方法、制造装置和电容器在审

专利信息
申请号: 202111273331.9 申请日: 2021-10-29
公开(公告)号: CN114121488A 公开(公告)日: 2022-03-01
发明(设计)人: 周峰;王余跃 申请(专利权)人: 安徽赛福电容有限公司
主分类号: H01G4/33 分类号: H01G4/33;H01G4/35;H01G4/06;H01G4/002;H01G2/08;H01G13/04;H01G13/00
代理公司: 合肥东信智谷知识产权代理事务所(普通合伙) 34143 代理人: 王燕
地址: 244000 安徽省铜陵市铜官区包村东路以南*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 金属化 薄膜 及其 制造 方法 装置 电容器
【权利要求书】:

1.一种金属化薄膜,包括金属化薄膜本体(10),其特征在于:所述金属化薄膜本体(10)包括相互嵌合的第一膜体(11)以及第二膜体(12),所述第一膜体(11)与第二膜体(12)之间形成有外缘闭合的缓冲腔体(13),缓冲腔体(13)内部设置有碗状斗(14),第一膜体(11)远离第二膜体(12)的一侧设置有降噪孔板(15),所述第一膜体(11)与第二膜体(12)均呈波浪状。

2.根据权利要求1所述的一种金属化薄膜,其特征在于:所述第一膜体(11)以及第二膜体(12)均由金属薄膜制成,且在第一膜体(11)两面以及第二膜体(12)两面均紧密贴附有高分子聚合物材料层。

3.根据权利要求1所述的一种金属化薄膜,其特征在于:所述第一膜体(11)、第二膜体(12)的形状均与F(x)=sinx函数图形一致。

4.根据权利要求1所述的一种金属化薄膜,其特征在于:所述降噪孔板(15)的表面贯穿设置有穿孔,穿孔的内截面半径向远离第一膜体(11)的一侧逐渐减线性减小;所述降噪孔板(15)由氧化硅(SiOx)制成。

5.根据权利要求1所述的一种金属化薄膜,其特征在于:若干个所述碗状斗(14)沿着缓冲腔体(13)内部呈阵列分布,碗状斗(14)的开口朝向不尽一致。

6.权利要求1-5中所述的金属化薄膜的制造方法,其特征在于:包括以下步骤,

S1、浸渍处理;将述第一膜体(11)以及第二膜体(12)在可流动的浸渍料中的浸渍2-4小时;浸渍温度为10℃-30℃;

S2、电晕处理;将浸渍后的第一膜体(11)以及第二膜体(12)沥干,并进行电晕处理,以提高表面湿润张力;

S4、静置处理;对电晕处理后的第一膜体(11)以及第二膜体(12)进行静置,静置时间为18-48h;

S5、打磨处理;对静置处理后的第一膜体(11)以及第二膜体(12)进行表面打磨,以减小第一膜体(11)以及第二膜体(12)的粗糙度;

S6、定型处理;真空条件下,将第一膜体(11)以及第二膜体(12)加工成波浪状,并且在60℃-70℃条件下热定型,并干燥处理4h-6h;

S7、合成处理;将第一膜体(11)与第二膜体(12)通过碗状斗(14)连接在一起,第一膜体(11)与第二膜体(12)的外缘进行封闭处理。

7.根据权利要求6所述的一种金属化薄膜的制造方法,其特征在于:在步骤S2和步骤S3之间,还包括,

步骤S3、热压处理,在85℃、15MPA压强的条件下,对第一膜体(11)以及第二膜体(12)进行6-10分钟的热压。

8.一种金属化薄膜的制造装置,其特征在于:包括自动张力调节卷绕模块,用于平整第一膜体(11)以及第二膜体(12)。

9.一种基于金属化薄膜的电容器,其特征在于:包括电容器本体(20),所述电容器本体(20)由权利要求1-5中的金属化薄膜本体(10)制备而成。

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