[发明专利]一种基于可复用紫外光固化材料的微纳结构转印方法有效

专利信息
申请号: 202111275152.9 申请日: 2021-10-29
公开(公告)号: CN114030304B 公开(公告)日: 2023-03-21
发明(设计)人: 杨涛;邓刚;李慧敏;赵军 申请(专利权)人: 绍兴虎彩激光材料科技有限公司
主分类号: B41M5/03 分类号: B41M5/03;B41M5/00;B41M1/30;B41M7/00
代理公司: 绍兴市越兴专利事务所(普通合伙) 33220 代理人: 高林
地址: 312000 浙江*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 可复用 紫外 光固化 材料 结构 方法
【权利要求书】:

1.一种基于可复用紫外光固化材料的微纳结构转印方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)紫外光固化模压:取聚酯薄膜进行化学处理,在聚酯薄膜经化学处理的一面上涂覆紫外光固化信息层涂料,进一步与具有微纳结构信息的单张模版进行压合,再经紫外光固化,在聚酯薄膜上形成具有完整微纳结构的涂层,得到卷装模板;紫外光固化涂料温度为30℃-40℃,紫外光固化灯与单张模版表面距离应为55-65mm,紫外光固化能量为20mJ/cm2-50mJ/cm2,紫外光固化灯的固化波长与紫外光固化信息涂料中光引发剂的波长相匹配;所述聚酯薄膜卷筒端面平整,透明性好,无褶皱、爆筋、凹陷、明显彩虹印、油污、晶点,使用面的表面张力≥48mN/m,厚度允差为标称值的±2.0μm,纵向拉伸强度≥200Mpa,热收缩率为纵向≤3.0%、横向≤1.0%,幅宽允差<标称值+2mm;所述卷装模板的微纳结构材料的定量允差为±3%,宽度允差为±0.5mm,厚度允差为±15μm,版距允差为±0.5mm,图文单元间距允差为±0.25mm,表面张力≥38mN/m,平张偏斜度≤0.5mm; (2)真空镀膜:对卷装模板进行镀膜,得到卷装喷镀膜板,镀膜的厚度允差为±10%,镀膜真空度≥5×10-3kPa,镀膜材料中的铝丝纯度≥99.8%; (3)镀层保护涂料涂布:涂布区域环境温度为10℃-35℃,相对湿度范围应为45%-70%RH,涂布时镀层保护涂料的温度为22℃-26℃,涂布速度允差为±5m/min,涂布完成后干燥温度为77℃-82℃,涂布干量允差≤0.1g/m2,镀层保护涂料涂布完成后,得到转印材料; (4)复合过程:借助转移胶粘剂,将转移材料与承印材料进行复合,复合过程中生产区域环境相对湿度范围为50%-70%RH,转移胶粘剂涂布均匀,复合压力均匀,复合完成后得到含有微纳结构的复合材料; (5)剥离过程:剥离前对含有微纳结构的复合材料进行熟化,熟化温度控制为35-45℃,熟化时间≥12h,同时控制相对湿度范围为50%-70%RH;剥离后向微纳结构材料镀膜层涂布防氧化面涂层,所述防氧化面涂层的表面张力≥38mN/m,将剥离下来的卷状模板回收二次使用。

2.根据权利要求1所述的一种基于可复用紫外光固化材料的微纳结构转印方法,其特征在于:所述紫外光固化信息层涂料透明无杂质,所述涂层与聚酯薄膜化学处理面的附着力≤1级,所述涂层表面张力≤38mN/m。

3.根据权利要求1所述的一种基于可复用紫外光固化材料的微纳结构转印方法,其特征在于:所述具有微纳结构信息的单张模版的正反面不存在透孔点和明显毛刺,图文信息清晰完整,无划伤,无脏迹,每个版面中直径Φ>1.0mm的黑点、亮点为0个,每个版面上1.0mm≥Φ>0.8mm的黑点或亮点不超过1个;每个版面上0.8mm≥Φ>0.5mm的黑点或亮点不超过3个;每个版面上0.5mm≥Φ>0.2mm的黑点或亮点不超过8个,幅宽方向允差<5mm,版距方向允差小于0.5mm,厚度及允差为130±30μm。

4.根据权利要求1所述的一种基于可复用紫外光固化材料的微纳结构转印方法,其特征在于:所述卷状模板的微纳结构材料中,直径大于0.5mm的黑点或亮点为零;每个版距中,直径不大于0.5mm的黑点或亮点≤5个。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于绍兴虎彩激光材料科技有限公司,未经绍兴虎彩激光材料科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111275152.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top