[发明专利]一种Ni2

权利要求书

1.一种Ni₂P/Ni₁₂P_5-xBr_x富缺陷纳米片，包括Ni₂P纳米片和从所述Ni₂P纳米片表面原位析出的Ni₁₂P_5-xBr_x纳米粒子，所述Br的含量在1.6wt％～2.3wt％之间，Ni₁₂P_5-xBr_x纳米粒子直径在8-13nm之间。

2.一种Ni₂P/Ni₁₂P_5-xBr_x富缺陷纳米片的合成方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)将一基底置于含有前驱体溶液的高压釜内衬中，所述前驱体溶液为：浓度为0.02-0.04M的Ni(NO₃)₂.6H₂O、浓度为0.1-0.25M的NH₄F和0.1-0.3M浓度的尿素的混合水溶液；100-120℃范围内水热反应10小时后，用去离子水和乙醇清洗，以去除表面的吸附杂质，在基底上得到Ni(OH)₂前体；

(2)Ni₂P/Ni₁₂P_5-xBr_x/NF的合成：将Ni(OH)₂前体置于管式炉的下游，中游为NaH₂PO₂.H₂O，上游为六溴苯片，载气为氩气，350-550℃热处理2小时，自然冷却至室温取出，在基底上得到Ni₂P/Ni₁₂P_5-xBr_x富缺陷纳米片，其中，Br的含量在1.6wt％～2.3wt％之间。

3.根据权利要求2所述的合成方法，其特征在于，所述步骤(2)中，六溴苯与NaH₂PO₂.H₂O的质量比为0.6-0.9。

4.根据权利要求2所述的合成方法，其特征在于，所述基底为多孔镍。