[发明专利]一种材料成像方法、装置、终端设备及存储介质

权利要求书

1.一种材料成像方法，其特征在于，包括：

以预设的目标扫描方式向所述目标材料发出太赫兹波，根据所述太赫兹波确定所述目标材料内检测点的初始位置信息和所述检测点对应的目标材料表面位置；

根据所述目标材料表面位置对所述初始位置信息进行折射率校正，得到所述检测点的目标位置信息；

根据所述目标位置信息构建所述目标材料的成像结果。

2.如权利要求1所述的材料成像方法，其特征在于，在以预设的目标扫描方式向所述目标材料发出太赫兹波之前，还包括：

获取所述目标材料的材料类型，确定与所述目标材料的材料类型一致的测试材料对应的目标扫描方式；

将所述测试材料对应的目标扫描方式确定为所述目标材料的目标扫描方式。

3.如权利要求2所述的材料成像方法，其特征在于，在确定与所述目标材料的材料类型一致的测试材料对应的目标扫描方式之前，还包括：

获取测试材料的材料类型，根据所述材料类型确定预设的初始扫描方式；

根据所述初始扫描方式确定所述测试材料的初始成像结果；

根据所述初始成像结果对所述初始扫描方式的扫描密度进行修改，直至修改后的初始扫描方式对应的成像结果符合预设条件时，将所述修改后的初始扫描方式确定为所述测试材料的目标扫描方式。

4.如权利要求3所述的材料成像方法，其特征在于，所述根据所述初始成像结果对所述初始扫描方式的扫描密度进行修改，直至修改后的初始扫描方式对应的成像结果符合预设条件时，将所述修改后的初始扫描方式确定为所述测试材料的目标扫描方式，包括：

若所述初始成像结果中存在预设缺陷位置，则以预设方式提高所述初始扫描方式的扫描密度，直至提高后的初始扫描方式对应的成像结果不存在预设缺陷位置时，将所述提高后的初始扫描方式确定为所述测试材料的目标扫描方式。

5.如权利要求3所述的材料成像方法，其特征在于，所述根据所述初始成像结果对所述初始扫描方式的扫描密度进行修改，直至修改后的初始扫描方式对应的成像结果符合预设条件时，将所述修改后的初始扫描方式确定为所述测试材料的目标扫描方式，包括：

若所述初始成像结果中存在位置重叠现象，则以预设方式减少所述初始扫描方式的扫描密度，直至减少后的扫描方式对应的成像结果与所述初始成像结果不一致时，将所述减少后的扫描方式的上一次扫描方式确定为所述测试材料的目标扫描方式。

6.如权利要求1至5任一项所述的材料成像方法，其特征在于，所述根据所述太赫兹波确定所述目标材料内检测点的初始位置信息和所述检测点对应的目标材料表面位置，包括：

根据所述太赫兹波确定所述目标材料内检测点与探头之间的距离，所述探头用于发出所述太赫兹波；

获取所述探头的位置信息，根据所述距离和所述位置信息确定所述检测点的初始位置信息；

根据所述检测点的初始位置信息构建所述目标材料的成像结果，确定所述目标材料的表面信息；

根据所述表面信息确定所述检测点对应的目标材料表面位置。

7.如权利要求6所述的材料成像方法，其特征在于，所述根据所述目标材料表面位置对所述初始位置信息进行折射率校正，包括：

根据所述目标材料表面位置和所述探头位置信息确定入射角；

根据所述目标材料的折射率、空气折射率和所述入射角确定折射角；

根据所述折射角对所述初始位置信息进行折射率校正。

8.一种材料成像装置，其特征在于，包括：

位置确定模块，用于以预设的目标扫描方式向所述目标材料发出太赫兹波，根据所述太赫兹波确定所述目标材料内检测点的初始位置信息和所述检测点对应的目标材料表面位置；

校正模块，用于根据所述目标材料表面位置对所述初始位置信息进行折射率校正，得到所述检测点的目标位置信息；

成像结果构建模块，用于根据所述目标位置信息构建所述目标材料的成像结果。