[发明专利]含有氯化氢水溶液的硅氧烷的处理方法和装置在审
| 申请号： | 202111283157.6 | 申请日： | 2021-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN113831363A | 公开（公告）日： | 2021-12-24 |
| 发明（设计）人： | 余洋;李军;张宏伟;赵琦;周学龙 | 申请（专利权）人： | 新疆晶硕新材料有限公司;新特能源股份有限公司 |
| 主分类号： | C07F7/21 | 分类号： | C07F7/21 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 李红标 |
| 地址： | 831500 新疆维吾尔自治区乌鲁木*** | 国省代码： | 新疆;65 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 含有 氯化氢 水溶液 硅氧烷 处理 方法 装置 | ||
1.一种含有氯化氢水溶液的硅氧烷的处理方法，其特征在于，包括：
收集含有氯化氢水溶液的硅氧烷液体；
将含有氯化氢水溶液的硅氧烷液体进行深冷降温到-10℃至-40℃以使硅氧烷液体中的氯化氢水溶液结晶；
过滤含有结晶的硅氧烷液体除去结晶。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，将含有氯化氢水溶液的硅氧烷液体进行深冷降温到-10℃至-40℃以使硅氧烷液体中的氯化氢水溶液结晶的步骤之前，还包括：
向含有氯化氢水溶液的硅氧烷液体中加入去离子水将氯化氢水溶液中氯化氢的含量调节至0.5-5％。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在过滤含有结晶的硅氧烷液体除去结晶的步骤之后还包括：
利用除去结晶的硅氧烷液体对含有水的气态氯化氢进行降温到-2℃至-7℃。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述硅氧烷液体中氯化氢水溶液的含量为1-5％。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在收集含有氯化氢水溶液的硅氧烷液体的步骤中，氯化氢水溶液中氯化氢的含量为0.5-5％。
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括：
将二甲基二氯硅烷与浓盐酸进行水解得到水解混合物；
分离所述水解混合物得到含有氯化氢水溶液的硅氧烷液体。
7.一种含有氯化氢水溶液的硅氧烷的处理装置，其特征在于，包括：
收集装置，用于收集含有氯化氢水溶液的硅氧烷液体；
深冷装置，用于将含有氯化氢水溶液的硅氧烷液体进行深冷降温到-10℃至-40℃以使硅氧烷液体中的氯化氢水溶液结晶；
过滤装置，用于过滤含有结晶的硅氧烷液体除去结晶。
8.根据权利要求7所述的处理装置，其特征在于，还包括：
混合装置，用于向含有氯化氢水溶液的硅氧烷液体中加入去离子水将氯化氢水溶液中氯化氢的含量调节至0.5-5％。
9.根据权利要求7所述的处理装置，其特征在于，还包括：
换热装置，用于利用除去结晶的硅氧烷液体对含有水的气态氯化氢进行降温到-2℃至-7℃。
10.根据权利要求7所述的处理装置，其特征在于，还包括：
水解装置，用于将二甲基二氯硅烷与浓盐酸进行水解得到水解混合物；
分离装置，用于分离所述水解混合物得到含有氯化氢水溶液的硅氧烷液体。
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