[发明专利]一种抑制静电释放的光罩及其制作方法在审
| 申请号： | 202111284303.7 | 申请日： | 2021-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN113966059A | 公开（公告）日： | 2022-01-21 |
| 发明（设计）人： | 林锦鸿 | 申请（专利权）人： | 泉意光罩光电科技（济南）有限公司 |
| 主分类号： | H05F3/00 | 分类号： | H05F3/00;H05F3/02;G03F1/40 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 鲁梅 |
| 地址： | 250101 山东省济南市高新区经十路7*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 抑制 静电 释放 及其 制作方法 | ||
1.一种抑制静电释放的光罩，其特征在于，包括：
基板；
第一导电层，所述第一导电层位于所述基板第一表面，并被刻蚀成预设形状，其中，所述第一导电层为金属导电层；
第二导电层，所述第二导电层覆盖所述第一导电层以及所述基板第一表面，其中，所述第二导电层为导电薄膜。
2.根据权利要求1所述的光罩，其特征在于，所述第二导电层的电阻率小于1×10-3Ω·cm，所述第二导电层的透光率不低于80％。
3.根据权利要求1所述的光罩，其特征在于，所述第二导电层的厚度的取值范围为100埃～1000埃，包括端点值。
4.根据权利要求1所述的光罩，其特征在于，所述第二导电层的材料为SnO2、In2O3、ZnO中的一种。
5.根据权利要求1所述的光罩，其特征在于，所述基板为玻璃基板，所述基板的透光率不低于80％。
6.一种抑制静电释放的光罩的制作方法，其特征在于，包括：
提供一基板；
在所述基板第一表面形成具有预设形状的第一导电层，其中，所述第一导电层为金属导电层；
形成第二导电层，所述第二导电层覆盖所述第一导电层以及所述基板第一表面，其中，所述第二导电层为导电薄膜。
7.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，在所述基板第一表面形成具有预设形状的所述第一导电层包括：
在所述基板第一表面形成导电材料层，刻蚀所述导电材料层，形成具有预设形状的所述第一导电层。
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