[发明专利]一种双面光刻机工件台

说明书

本发明属于光刻机技术领域，公开了一种双面光刻机工件台，包括XYY平台、固定安装在XYY平台上的下安装台以及位于下安装台上方的上安装台，上安装台安装在升降机构上，上安装台上安装有上掩膜版，下安装台上安装有下掩膜版；XYY平台和下安装台之间设有摄像头。本发明所提供的双面光刻机工件台，XYY平台先自动找平，然后上安装台下降直到上安装台和下安装台贴合，贴合后通过摄像头对上掩膜版和下掩膜版进行对位识别，如果没有对位成功，则通过XYY平台对下安装台进行微调直到对位成功，该工件台对位过程无需人工操作，可以有效提高对位的速度。

技术领域

本发明属于光刻机技术领域，具体涉及一种双面光刻机工件台。

背景技术

光刻是半导体制造过程中一道非常重要的工序，它是将一系列掩模板上的芯片图形通过曝光依次转移到硅片相应层上的工艺过程，被认为是大规模集成电路制造中的核心步骤。半导体制造中一系列复杂而耗时的光刻工艺主要由相应的光刻机来完成。现有的光刻机大部分为单面光刻机，即使有部分双面光刻机也由于掩膜版对位速度慢、效果差而导致工作效率低下。

发明内容

本发明旨在至少在一定程度上解决上述技术问题。为此，本发明目的在于提供一种双面光刻机工件台。

本发明所采用的技术方案为：

一种双面光刻机工件台，包括XYY平台、固定安装在XYY平台上的下安装台以及位于下安装台上方的上安装台，上安装台安装在升降机构上，上安装台上安装有上掩膜版，下安装台上安装有下掩膜版；XYY平台和下安装台之间设有摄像头。

优选地，所述下安装台上设有朝向上安装台的吹气孔，吹气孔均与正压气源相连，吹气孔和正压气源之间设有气压表，气压表与升降机构电性连接。

优选地，所述上安装台上也设有朝向下安装台的吹气孔。

优选地，所述下掩膜版的四个侧面上均设有压紧块，下安装台上相对压紧块的位置设有推块，其中两相邻侧位置的推块安装在压紧气缸的自由端上，压紧气缸固定安装在下安装台上。

优选地，所述摄像头安装在XYZ三轴运动机构上，XYZ三轴运动机构包括X轴直线滑台、安装在X轴直线滑台的自由端上的Y轴直线滑台、安装在Y轴直线滑台的自由端上的Z轴直线滑台、安装在Z轴直线滑台的固定端上的安装座，摄像头安装在安装座上。

本发明的有益效果为：

本发明所提供的双面光刻机工件台，XYY平台先自动找平，然后上安装台下降直到上安装台和下安装台贴合，贴合后通过摄像头对上掩膜版和下掩膜版进行对位识别，如果没有对位成功，则通过XYY平台对下安装台进行微调直到对位成功，该工件台对位过程无需人工操作，可以有效提高掩膜版的对位速度。

附图说明

图1是本发明双面光刻机的立体图。

图2是本发明双面光刻机的俯视图。

图3是本发明工件台的结构示意图。

图4是本发明工件台另一角度的结构示意图。

图5是本发明下安装台的结构示意图。

图中：1-机架；2-第一机械臂；3-上料盒；4-预对位装置；5-工件台；501-XYY平台；502-下安装台；503-上安装台；504-升降机构；505-上掩膜版；506-下掩膜版；507-摄像头；508-吹气孔；509-压紧块；510-推块；511-压紧气缸；512-X轴直线滑台；513-Y轴直线滑台；514-Z轴直线滑台；515-安装座；6-曝光机构；7-下料盒；8-第二机械臂；9-第三机械臂。

具体实施方式