[发明专利]一种不锈钢抛光蜡的清洗剂及清洗工艺

说明书

本申请公开了一种不锈钢抛光蜡的清洗剂，包括酸性清洗剂和碱性清洗剂，其中，所述酸性清洗剂以100重量份计，包括：胺基膦酸20‑30重量份、支链带有C＝O基团的烷基链聚合物10‑20重量份、磷酸盐20‑30重量份、水解聚马来酸酐20‑30重量份、螯合剂10‑20重量份、含极性基团的不饱和脂肪酸酯3‑5重量份，余量为水；所述碱性清洗剂以100重量份计，包括：强碱性无机盐10‑15重量份、弱碱性无机盐4‑8重量份、烷基糖苷3‑8重量份、基酚聚氧乙烯醚5‑10重量份、辛基酚聚氧乙烯醚5‑10重量份、增溶剂5‑10重量份、非极性有机溶剂10‑20重量份，余量为水。本申请还提供一种不锈钢抛光蜡的清洗工艺。

技术领域

本申请涉及清洗试剂技术领域，特别是涉及一种不锈钢抛光蜡的清洗剂及清洗工艺。

背景技术

现在手机摄像技术发展越来越快，对摄像模组的要求也相应提高。不锈钢材质作为高端手机所使用的材料，具有质量轻，质地硬，金属质感佳，不易发生形变的特点，广泛应用于摄像模组中。

在摄像头部分所使用的金属组件，需要对表面金属拉丝部分进行抛光增亮，在生产过程中会使用液体抛光蜡对其进行抛光。经过抛光工序后，不锈钢模组的表面以及凹槽结构里会残留比较多的脏污，因此需要对其进行清洗。而抛光使用的液体抛光蜡里主要存在两种物质：石蜡和α型-氧化铝，其中石蜡是非极性物质，熔点较低，在进行抛光的过程中，会产生较高的温度，因而在不锈钢抛光的位置粗糙度较高，液体石蜡在高温下溶解吸附在表面，不易清洗，而α型-氧化铝，属三方晶系，氧离子成近似密排六方堆积，铝原子填充在其八面体间隙中，整个晶体可看成无数八面体[AlO₆]通过共面结合而成的大“分子”，稳定性高，不与酸碱发生反应，同时因静电效应，在不锈钢表面附着力强，不易进行清洗。

因此，如何开发一种用于清洗不锈钢摄像头模组表面液体蜡抛光后脏污的清洗剂，是本领域技术人员亟待解决的技术问题。

发明内容

为解决上述技术问题，本发明的第一个目的为提供一种不锈钢抛光蜡的清洗剂；本发明的第二个目的为提供一种不锈钢抛光蜡的清洗工艺；本申请提供的不锈钢抛光蜡的清洗剂及清洗工艺，能有效去除不锈钢金属表面以及凹槽内的残留脏污，提高产品的清洗良率，且工艺简单、易操作，不易过敏、环保、价格低廉。

本发明提供的技术方案如下：

一种不锈钢抛光蜡的清洗剂，包括酸性清洗剂和碱性清洗剂，

其中，所述酸性清洗剂以100重量份计，包括：胺基膦酸20-30重量份、支链带有C＝O基团的烷基链聚合物10-20重量份、磷酸盐20-30重量份、水解聚马来酸酐20-30重量份、螯合剂10-20重量份、含极性基团的不饱和脂肪酸酯3-5重量份，余量为水；

所述碱性清洗剂以100重量份计，包括：强碱性无机盐10-15重量份、弱碱性无机盐4-8重量份、烷基糖苷3-8重量份、烷基酚聚氧乙烯醚10-20重量份、增溶剂5-10重量份、非极性有机溶剂10-20重量份，余量为水。

优选地，所述酸性清洗剂中的螯合剂为乙二胺四乙酸四盐、乙二胺四乙酸二盐、葡萄糖酸盐、葡庚糖酸盐、氨基三乙酸、羟基乙叉二膦酸四盐、柠檬酸盐、酒石酸盐、羟基乙酸和羟乙基乙二胺三乙酸中的任意一种或多种；和/或，

所述酸性清洗剂中的胺基膦酸为氨基三亚甲基膦酸、羟基亚乙基二膦酸、乙二胺四亚甲基膦酸、二亚乙基三胺五亚甲基膦酸中的任意一种或多种。

优选地，所述碱性清洗剂中的强碱性无机盐为氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锂中的任意一种或多种；

所述弱碱性无机盐为碳酸钠、碳酸氢钠、碳酸钾、碳酸氢钾中的任意一种或多种。

优选地，所述酸性清洗剂中的支链带有C＝O基团的烷基链聚合物具体为聚丙烯酸盐、聚丙烯酰胺、聚丙烯酸酯中的任意一种或多种；