[发明专利]紫外光清洁系统和使用方法

权利要求书

1.一种清洁系统，所述清洁系统包括：

目标(104)，其对波长范围从约222纳米至约300纳米的紫外光至少30％透明；以及

接触元件(112)，其可去除地联接到所述目标(104)，并被配置为响应于力被施加到所述目标(104)而引起所述接触元件(112)的运动。

2.根据权利要求1所述的清洁系统，其中，所述目标(104)对紫外光至少约30％透明。

3.根据权利要求1所述的清洁系统，其中，所述目标(104)包括紫外光透射率为约95％至约99.15％的透明材料。

4.根据权利要求3所述的清洁系统，其中，所述透明材料包括硼硅酸盐玻璃。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的清洁系统，其中，所述目标(104)的厚度为约0.2毫米至约20厘米。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的清洁系统，其中，所述目标(104)经由粘合剂、机械联接件、磁性联接件、压配合联接件或其组合直接联接到所述接触元件(112)。

7.根据权利要求1至4中任一项所述的清洁系统，其中，所述目标(104)经由固定装置(106)间接联接到所述接触元件(112)。

8.根据权利要求1所述的清洁系统，所述清洁系统还包括与所述接触元件(112)和所述目标(104)中的每个直接接触并可去除地联接到所述接触元件(112)和所述目标(104)中的每个的部件(106)。

9.根据权利要求1所述的清洁系统，所述清洁系统还包括：紫外光源(102)，所述紫外光源(102)被配置为发射波长范围从约222纳米至约254纳米的紫外光。

10.根据权利要求8所述的清洁系统，所述清洁系统还包括：第一反射器(616)，所述第一反射器(616)被配置为将紫外光反射到所述目标(104)的至少一个表面上。

11.根据权利要求8所述的清洁系统，其中，所述目标(104)包括至少一个目标吸收器(420)，所述目标吸收器(420)被配置为在紫外光穿过所述目标(104)的至少一个表面之后吸收所述紫外光。

12.根据权利要求9所述的清洁系统，其中，所述目标(104)包括第二反射器(612)，所述第二反射器(612)被配置为将从所述紫外光源(102)接收的所述紫外光在至少一个方向上反射通过所述目标(104)，以将所述紫外光朝向所述目标(104)的至少一个其他表面引导。

13.一种清洁系统，所述清洁系统包括：

紫外光源(102)，其被配置为发射波长范围从约222纳米至约300纳米的紫外光；

目标(104)，其对波长范围从约222纳米至约300纳米的紫外光至少30％透明；以及

接触元件(112)，其可去除地联接到所述目标(104)，并被配置为响应于力被施加到所述目标(104)而引起所述接触元件(112)的运动。

14.根据权利要求13所述的清洁系统，所述清洁系统还包括非暂态存储介质(108)，所述非暂态存储介质(108)被配置为存储可由处理器执行并包括至少一个清洁程序的多个逻辑，并且所述清洁系统包括被配置为检测触发事件的传感器(110)，所述至少一个清洁程序被配置为响应于所述传感器(110)检测到所述触发事件而发射所述紫外光。

15.一种清洁方法，所述清洁方法包括：

通过与紫外光清洁系统关联的传感器检测(202)第一触发事件；并且

响应于检测到所述第一触发事件，由处理器执行(204)清洁程序以清洁目标，其中，执行所述清洁程序包括：

激活所述紫外光清洁系统的紫外光源达预定时间段，所述紫外光源被配置为进行发射，以发射波长范围为约222纳米至约300纳米的紫外光来清洁所述目标。