[发明专利]一种高浓度壬二酸乳膏及其制备工艺

权利要求书

1.一种高浓度壬二酸乳膏，其特征在于，制备原料包括：A相、B相、C相；A相的制备原料包括：溶剂；B相的制备原料包括：聚醚基硅聚合物；C相的制备原料包括：壬二酸。

2.根据权利要求1所述的一种高浓度壬二酸乳膏，其特征在于，所述A相、B相、C相的重量比为(9-12)：(2-6)：(2-6)。

3.根据权利要求1-2任一项所述的一种高浓度壬二酸乳膏，其特征在于，所述聚醚基硅聚合物的粘度小于2300mPa.s。

4.根据权利要求1-3任一项所述的一种高浓度壬二酸乳膏，其特征在于，所述B相的制备原料还包括：支链烷基羧酸聚甘油酯类乳化剂和一元醇一元酸酯类润肤剂。

5.根据权利要求4所述的一种高浓度壬二酸乳膏，其特征在于，所述支链烷基羧酸聚甘油酯类乳化剂和一元醇一元酸酯类润肤剂的重量比为1：(10-15)。

6.根据权利要求4-5任一项所述的一种高浓度壬二酸乳膏，其特征在于，所述支链烷基羧酸聚甘油酯类乳化剂包括聚甘油-4异硬脂酸酯、聚甘油-3异硬脂酸酯、聚甘油-5异硬脂酸酯、聚甘油-10异硬脂酸酯、聚甘油异棕榈酸酯中的至少一种。

7.根据权利要求4-6任一项所述的一种高浓度壬二酸乳膏，其特征在于，所述一元醇一元酸酯类润肤剂包括鲸蜡硬脂醇乙基己酸酯、异十三醇异壬酸酯、辛酸壬酯、异戊酸辛酯、亚油酸丁酯中的至少一种。

8.根据权利要求1-7任一项所述的一种高浓度壬二酸乳膏，其特征在于，所述A相的制备原料还包括：增稠剂。

9.根据权利要求1所述的一种高浓度壬二酸乳膏，其特征在于，所述B相的制备原料还包括：抑菌剂、保湿剂。

10.一种根据权利要求1所述的高浓度壬二酸乳膏的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

(1)配制锅中加入A相的制备原料，加热搅拌均匀；

(2)水相锅中加入B相的制备原料，加热搅拌均匀；

(3)将水相锅的制备原料倒入配制锅中，开启均质，降温，加入C相的制备原料，开启均质；

(4)理化指标检测后降温出料。