[发明专利]一种导电金属氧化物靶材制备工艺

权利要求书

1.一种导电金属氧化物靶材制备工艺，其特征在于：所述工艺步骤为：

步骤1、选料：准备好Zn锭和Sn锭；

步骤2、融化：Zn锭和Sn锭加热升温至400-500℃融化，并采用电磁搅拌技术搅拌1-2小时；

步骤3、金属雾化：采用金属雾化工艺将步骤2中的熔融的金属合金制备成粉末状颗粒，粉末状颗为表面为氧化锌锡涂层、中心为ZnSn合金的球形颗粒；

步骤4、筛分：从步骤3中的粉末状颗粒筛选出粒径为40~120um的球形颗粒作为粉料；

步骤5、喷涂：采用等离子喷涂工艺，将步骤4中的粉料喷涂形成靶材。

2.根据权利要求1所述一种导电金属氧化物靶材制备工艺，其特征在于：步骤1中，Zn锭和Sn锭按照重量比分别为：Sn占比45~55%，Zn占比45~55%。

3.根据权利要求1所述一种导电金属氧化物靶材制备工艺，其特征在于：步骤3中的金属雾化工艺中，雾化介质采用纯度超过99.99%的高纯氧气，雾化压力12~16bar，步骤2中熔化的合金金属流速0.2~0.5L/min。

4.根据权利要求1所述一种导电金属氧化物靶材制备工艺，其特征在于：步骤5中，喷涂电压100~120V，电流400~450A，喷枪的供粉速率100~120g/min；同时喷涂在密封的腔体内进行，通过喷枪两侧的气体管路向腔体内持续通入纯度超过99.99%的高纯氧气、纯度超过99.99%的高纯氮气和纯度超过99.99%的高纯氩气，在腔体下部连接负压除尘管道，将喷涂过程中多余的粉料利用负压抽走，并监控腔体内的压力，确保腔体内压力保持在0~1bar。