[发明专利]电磁继电器在审

专利信息
申请号: 202111293100.4 申请日: 2021-11-03
公开(公告)号: CN114520129A 公开(公告)日: 2022-05-20
发明(设计)人: 川口直树;箕轮亮太;大塚航平 申请(专利权)人: 欧姆龙株式会社
主分类号: H01H50/38 分类号: H01H50/38;H01H50/36
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 张劲松
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电磁 继电器
【说明书】:

本发明提供一种电磁继电器,其能够容易地进行电弧的伸长方向的控制。电磁继电器具备基座、壳体、电弧伸长空间、触点装置以及磁铁。电弧伸长空间形成于基座与壳体之间。触点装置包括被基座支撑的固定端子、与固定端子连接的固定触点、可动接触片、以及与可动接触片连接且与固定触点对置的可动触点。磁铁产生用于使在固定触点与可动触点之间产生的电弧在电弧伸长空间内伸长的磁场。磁铁包括面向触点装置的第一磁铁部和与第一磁铁部相邻地配置且面向电弧伸长空间的第二磁铁部。从连结固定触点和可动触点的直线的中点到基座的距离与从电弧伸长空间的中心到基座的距离不同。从第一磁铁部的中心到基座的距离与从第二磁铁部的中心到基座的距离不同。

技术领域

本发明涉及一种电磁继电器。

背景技术

现今,已知有一种电磁继电器,该电磁继电器具备:电弧伸长空间,其用于使在触点开闭时产生的电弧伸长;以及永久磁铁,其产生用于将电弧引导至电弧伸长空间的磁场(参照专利文献1)。

专利文献1:日本专利第6365684号公报

在现有的电磁继电器中,由永久磁铁产生将电弧引导至电弧伸长空间的磁场,但在电弧伸长空间中,磁通的流动向被卷入至永久磁铁的方向流动。因此,难以控制电弧的伸长方向,为了有效地使用电弧伸长空间而存在改善的余地。另外,在包括固定触点和可动触点的触点部配置于从永久磁铁的中心离开的位置的情况下,且在将矩形状的永久磁铁配置为面向触点部及电弧伸长空间的情况下,在触点部附近流动的磁通的方向成为被卷入至永久磁铁的方向,难以将电弧的伸长方向控制为预期的方向。

发明内容

本发明的课题在于在电磁继电器中,能够容易地进行电弧的伸长方向的控制。

本发明的一个方式的电磁继电器具备外壳、电弧伸长空间、触点装置以及磁铁。外壳包括基座和安装于基座的壳体。电弧伸长空间形成于基座与壳体之间。触点装置包括被基座支撑的固定端子、与固定端子连接的固定触点、可动接触片、以及与可动接触片连接且与固定触点对置的可动触点。磁铁产生用于使在固定触点与可动触点之间产生的电弧在电弧伸长空间内伸长的磁场。磁铁包括面向触点装置的第一磁铁部和与第一磁铁部相邻地配置且面向电弧伸长空间的第二磁铁部。从连结固定触点和可动触点的直线的中点到基座的距离与从电弧伸长空间的中心到基座的距离不同。从第一磁铁部的中心到基座的距离与从第二磁铁部的中心到基座的距离不同。

在该电磁继电器中,在从连结固定触点和可动触点的直线的中点到基座的距离与从电弧伸长空间的中心到基座的距离不同的构造中,从第一磁铁部的中心到基座的距离与从第二磁铁部的中心到基座的距离不同。因此,例如,能够以使第一磁铁部的中心位于连结固定触点和可动触点的直线的中点的附近的方式配置第一磁铁部,以使第二磁铁部的中心位于电弧伸长空间的中心的附近的方式配置第二磁铁部。由此,在触点附近,第一磁铁部的磁通在与第一磁铁部和触点装置重叠的方向大致平行的方向上流动。并且,在电弧伸长空间的中心附近,磁通在与第二磁铁部和电弧伸长空间重叠的方向大致平行的方向上流动,因此与作用于电弧的磁通成为被卷入至永久磁铁的方向的情况相比,电弧的伸长方向的控制变得容易。其结果,能够容易地向电弧伸长空间引导电弧,并且能够在电弧伸长空间内有效地使电弧伸长。

连结固定触点和可动触点的直线的中点也可以比电弧伸长空间的中心更接近基座。第一磁铁部的中心也可以比第二磁铁部的中心更接近基座。在该情况下,由于第一磁铁部的中心位于与连结固定触点和可动触点的直线的中点接近的位置,所以能够更容易地将电弧引导至电弧伸长空间。

电弧伸长空间的中心也可以比固定端子更远离基座。在该情况下,能够在电弧伸长空间内更有效地使电弧伸长。

在从触点装置与第一磁铁部重叠的方向观察时,磁铁也可以包括直线部和倾斜部,其中,直线部相对于基座平行地延伸,倾斜部在远离直线部的位置,随着从触点装置向电弧伸长空间接近而向远离基座的方向倾斜。在该情况下,能够以简单的结构将从第一磁铁部的中心到基座的距离与从第二磁铁部的中心到基座的距离设为不同的距离。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于欧姆龙株式会社,未经欧姆龙株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111293100.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top