[发明专利]触头结构及其真空灭弧室在审
| 申请号： | 202111297760.X | 申请日： | 2021-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN114141576A | 公开（公告）日： | 2022-03-04 |
| 发明（设计）人： | 荣命哲;杨飞;张子健;元复兴;殷晓刚;颜莉萍;杨哲;吴益飞;吴翊 | 申请（专利权）人： | 西安交通大学;西安高压电器研究院有限责任公司 |
| 主分类号： | H01H33/664 | 分类号： | H01H33/664;H01H1/64 |
| 代理公司： | 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 | 代理人： | 覃婧婵 |
| 地址： | 710049 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 结构 及其 真空 灭弧室 | ||
1.一种触头结构，其特征在于，其包括，
静导电杆，
纵磁触头座，其与所述静导电杆同轴连接，所述纵磁触头座包括设在其侧壁的至少一个螺旋槽，电流流过所述纵磁触头座以产生纵向磁场，
触头片，其与所述纵磁触头座同轴连接，所述触头片开设至少一个用于调节所述纵向磁场的通槽，
动导电杆，
平板动触头，其与所述动导电杆同轴连接，所述平板动触头与所述触头片分离或接触。
2.根据权利要求1所述的一种触头结构，其特征在于，优选的，所述平板动触头的横截面积大于所述动导电杆，所述触头片的横截面积大于所述静导电杆。
3.根据权利要求1所述的一种触头结构，其特征在于，所述平板动触头的横截面积相同于所述触头片的横截面积。
4.根据权利要求1所述的一种触头结构，其特征在于，至少一个所述螺旋槽连通所述通槽。
5.根据权利要求1所述的一种触头结构，其特征在于，多个所述通槽相对于所述触头片的中心中心对称。
6.根据权利要求1所述的一种触头结构，其特征在于，所述通槽延伸到所述触头片的外缘。
7.根据权利要求1所述的一种触头结构，其特征在于，所述纵磁触头座为筒状结构，所述触头片为圆盘结构，所述圆盘结构可拆卸连接筒状结构的开口端。
8.根据权利要求7所述的一种触头结构，其特征在于，所述筒状结构为圆筒状。
9.根据权利要求1所述的一种触头结构，其特征在于，所述静导电杆与静导电杆构成杯装纵磁结构或线圈式纵磁结构。
10.一种真空灭弧室，其包括根据权利要求1-9中任一项所述的触头结构。
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