[发明专利]金属遮罩基材的制备方法

说明书

本发明公开一种金属遮罩基材的制备方法，包括提供金属基材。接着，量测金属基材的表面并取得光泽度。之后，判断光泽度是否介于默认值范围内。当判断光泽度介于默认值范围内时，对金属基材进行光刻制程，其中上述默认值范围介于90GU至400GU。

技术领域

本发明是有关于一种屏蔽的制程，且特别是有关于一种金属遮罩基材的制备方法。

背景技术

现今已有一些显示面板采用蒸镀(evaporation)并搭配使用金属遮罩的方式来制造，其中上述金属遮罩具有多个开口。在蒸镀的过程中，镀料能通过这些开口而沉积在被镀基板(例如玻璃板)上，以形成图案化膜层。现有的金属遮罩通常是采用光刻(photolithography)制程制造，所以这些开口通常是由显影后的光阻图案所定义。

目前的显示面板已朝向高分辨率的趋势而发展，所以金属遮罩的这些开口之间的间距(pitch)须要缩小，以使金属遮罩可以用来制造高分辨率的显示面板。然而。一旦这些开口之间的间距缩小，光阻图案覆盖相邻两开口之间区域的部分也会跟着缩小，以至于在进行蚀刻的过程中，光阻图案可能没有确实覆盖上述相邻两开口之间的区域而导致后续形成一些不合规格的大尺寸开口，甚至形成多个彼此相连的开口，造成制造完成的金属遮罩不适合或无法用于制造高分辨率的显示面板。

发明内容

本发明至少一实施例提出一种金属遮罩基材的制备方法，以帮助形成多个尺寸均匀一致的开口。

本发明至少一实施例所提出的金属遮罩基材的制备方法包括提供金属基材，其具有表面。接着，量测表面并取得光泽度。之后，判断光泽度是否介于默认值范围内。当判断光泽度介于默认值范围内时，对金属基材进行光刻制程，其中上述默认值范围介于90GU至400GU。

在本发明至少一实施例中，上述光泽度是依据20度光泽度标准而量测。

在本发明至少一实施例中，当判断光泽度未介于默认值范围内时，对金属基材进行表面处理，以使光泽度符合默认值范围。

在本发明至少一实施例中，上述对金属基材进行表面处理的步骤包括当光泽度小于90GU时，将金属基材浸泡于第一蚀刻液。当光泽度大于400GU时，将金属基材浸泡于第二蚀刻液，其中第一蚀刻液的黏滞系数大于第二蚀刻液的黏滞系数。

在本发明至少一实施例中，上述第一蚀刻液的浓度大于第二蚀刻液的浓度。

在本发明至少一实施例中，当光泽度介于90GU至400GU时，表面的三次元表面粗糙度Sa介于0.05微米至0.3微米之间。

在本发明至少一实施例中，当光泽度介于90GU至400GU时，表面的最大高度粗糙度Sz介于0.5微米至3微米之间。

在本发明至少一实施例中，上述金属基材的形成方法包括提供初始金属基材。之后，对初始金属基材进行初步表面处理。

在本发明至少一实施例中，上述初步表面处理包括化学蚀刻、研磨或电抛光。

本发明另一实施例所提出的金属遮罩基材的制备方法包括提供金属基材，其具有彼此相对的第一表面与第二表面。接着，量测第一表面并取得第一光泽度，以及量测第二表面并取得第二光泽度。之后，判断第一光泽度与第二光泽度每一者是否介于默认值范围内。当第一光泽度与第二光泽度皆介于默认值范围时，对金属基材进行光刻制程，其中默认值范围介于90GU至400GU。

在本发明至少一实施例中，上述第一光泽度与第二光泽度皆是依据20度光泽度标准而量测。

在本发明至少一实施例中，当第一光泽度与第二光泽度任一者不介于90GU至400GU时，对金属基材进行表面处理。