[发明专利]X射线分析装置以及X射线分析方法

权利要求书

1.一种X射线分析装置，包括：X射线源；X射线检测器，检测从所述X射线源照射的X射线；平台，配置于所述X射线源与所述X射线检测器之间，保持摄影对象，且所述X射线分析装置的特征在于包括：

光照射机构，向与从所述X射线源照射的X射线的X射线光轴相同的光轴上照射光，将所述摄影对象的影子的像投影于所述X射线检测器的位置。

2.根据权利要求1所述的X射线分析装置，其特征在于，

由从所述光照射机构照射的光所投影的、所述摄影对象的影子的像，表示由从所述X射线源照射的X射线所形成的、所述摄影对象的X射线透过图像所构成的区域。

3.根据权利要求1或2所述的X射线分析装置，其特征在于，

所述光照射机构包括：光源，照射可见光；以及反射板，将从所述光源照射的光向与所述X射线光轴为同轴上反射，照射于所述摄影对象。

4.根据权利要求3所述的X射线分析装置，其特征在于，

在所述反射板与所述摄影对象之间配置有标记构件。

5.根据权利要求1或2所述的X射线分析装置，其特征在于，

所述X射线分析装置为X射线计算机断层成像装置。

6.一种X射线分析方法，从X射线源向保持于平台上的摄影对象照射X射线，利用X射线检测器来检测透过摄影对象的X射线，进行摄影对象的分析，且所述X射线分析方法的特征在于，

利用光照射机构向与从所述X射线源照射的X射线的X射线光轴相同的光轴上照射光，将所述摄影对象的影子的像投影于所述X射线检测器的位置，根据所述摄影对象的影子的像来目视确认所述摄影对象是否位于基于X射线的摄影视场范围。