[发明专利]黑矩阵用颜料分散组合物、黑矩阵用抗蚀剂组合物以及黑矩阵在审
| 申请号： | 202111301052.9 | 申请日： | 2021-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN114539849A | 公开（公告）日： | 2022-05-27 |
| 发明（设计）人： | 辻康人;灰藤哲 | 申请（专利权）人： | 阪田油墨株式会社 |
| 主分类号： | C09D17/00 | 分类号： | C09D17/00;G03F7/004 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 王达佐;洪欣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 矩阵 颜料 分散 组合 用抗蚀剂 以及 | ||
【权利要求书】：
1.一种黑矩阵用颜料分散组合物，其中，所述黑矩阵用颜料分散组合物包含黑色着色剂、酞菁铜的磺化物和胺化合物，
所述胺化合物是选自下列化合物(A)～(D)中的至少一种：
(A)具有吡啶骨架的胺化合物；
(B)具有苯胺骨架的胺化合物；
(C)具有咔唑骨架的胺化合物；
(D)具有碳原子数为8以上的直链烷基、碳原子总数为20以下的胺化合物。
2.如权利要求1所述的黑矩阵用颜料分散组合物，其中，所述胺化合物是选自吡啶、对氨基偶氮苯、双胺芴、3-氨基-N-乙基咔唑、十二烷基胺、1-氨基-3-十一烷氧基丙烷中的至少一种。
3.如权利要求1或2所述的黑矩阵用颜料分散组合物，其中，所述酞菁铜的磺化物在分子中具有0.5个～3个磺酸基。
4.如权利要求1至3中任一项所述的黑矩阵用颜料分散组合物，其中，所述黑色着色剂包含炭黑。
5.如权利要求4所述的黑矩阵用颜料分散组合物，其中，所述炭黑是酸性炭黑。
6.一种黑矩阵用抗蚀剂组合物，其由权利要求1至5中任一项所述的黑矩阵用颜料分散组合物来得到。
7.一种黑矩阵，其由权利要求6所述的黑矩阵用抗蚀剂组合物来形成。
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