[发明专利]Al2

权利要求书

1.一种Al₂O₃阻氚涂层，其特征在于，其包括Al涂层、中间过渡层和Al₂O₃涂层；其中所述Al₂O₃涂层中的α-Al₂O₃的含量为30％以上。

2.根据权利要求1所述的Al₂O₃阻氚涂层，其特征在于，所述Al涂层的厚度为5μm-15μm；所述中间过渡层的厚度为1μm-3μm；所述Al₂O₃层的厚度为0.2μm-2μm。

3.如权利要求1或2所述的Al₂O₃阻氚涂层的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

镀铝：在基体上制备Al涂层；

扩散热处理：将制备Al涂层后的基体进行扩散热处理，形成中间过渡层；

氧化处理：采用离子注入技术对扩散热处理后的基体进行氧离子注入，使表面形成Al₂O₃涂层；所述氧离子注入的温度为375-550℃。

4.根据权利要求3所述的Al₂O₃阻氚涂层的制备方法，其特征在于，所述基体为不锈钢基体；所述不锈钢基体材料为316L不锈钢、低活化铁素体/马氏体钢或高Cr马氏体钢。

5.根据权利要求3所述的Al₂O₃阻氚涂层的制备方法，其特征在于，制备Al涂层时采用高纯铝靶，本底真空抽成0.5×10^-3-4.0×10^-3pa，将真空室加热至50℃-200℃并保温1-2小时，利用霍尔源、脉冲偏压电源，进行辉光清洗。

6.根据权利要求3所述的Al₂O₃阻氚涂层的制备方法，其特征在于，采用高功率脉冲磁控溅射技术制备Al涂层；所述高功率脉冲磁控溅射的条件控制为：工作气体为惰性气体；工作真空为0.5×10^-1pa-3×10^-1pa；工作气压为0.10Pa-0.35Pa；沉积温度为50℃-200℃，溅射功率为500W-2500W，脉冲频率为200-500Hz，占空比为10％-30％，时间为10-120min。

7.根据权利要求3所述的Al₂O₃阻氚涂层的制备方法，其特征在于，在真空条件下进行扩散热处理；所述扩散热处理的真空度为2.0×10^-4pa-7.0×10^-4pa；温度为550-675℃；时间为20-100min。

8.根据权利要求3所述的Al₂O₃阻氚涂层的制备方法，其特征在于，所述氧离子注入的加速电压为40kV-90kV；剂量为4×10¹⁷-1.1×10¹⁸ions/cm²。

9.根据权利要求3所述的Al₂O₃阻氚涂层的制备方法，其特征在于，所述氧离子注入的条件控制为：工作气体为氧气；本底真空为1×10^-4pa-4×10^-4pa，工作真空为1×10^-2pa-4×10^-2pa，电弧电压为40V-70V，电流为0.10A-0.24A，引出电压为1KV-3KV，电流为1mA-6mA，抑制电压为1.0KV-1.5KV，电流为1.0mA-2.5mA。

10.一种氚防护材料，其特征在于，其包括权利要求1或2所述Al₂O₃阻氚涂层。